【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种对粘附有未反应树脂的部件、特别是利用光刻生成制造工艺制造的部件进行清洁的方法，包括：-清洁步骤，其中，将部件放入清洁室中；部件在清洁室中与清洁介质接触，使树脂从部件上脱落；以及将载有脱落树脂的清洁介质从清洁室中排出，以及-再生步骤，其中将已加载的清洁介质供应到蒸馏单元，在蒸馏单元中通过蒸馏分离树脂使污染的清洁介质再生。本专利技术还涉及一种用于执行该方法的装置。
技术介绍
1、本专利技术涉及针对通过辐射固化工艺增材(additiv)制造的三维结构的工业清洁领域。通常，在辐射固化增材制造工艺中，液态反应性树脂在工艺温度下局部且高分辨率地暴露于辐射中并因此固化。第一层在构建平台或基材上固化，随后逐层固化的三维成型体可以粘附在该构建平台或基材上。成型体的逐层构建可以按照自下而上或自上而下的过程进行。辐射固化增材制造工艺的示例包括立体光刻、数字光处理(dlp)、双光子光刻、喷墨以及各种不同的工艺组合。另一种工艺是由申请人开发的热光刻技术。在此，高粘度树脂在室温下被选择性地加热，并由此降低粘度，直至树脂变得可处理。
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【技术保护点】
1.一种用于对粘附有未反应树脂的部件、特别是利用光刻生成制造工艺制造的部件进行清洁的方法，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述抑制剂阻止所述树脂在>70℃，优选>100℃的温度下的热和/或光诱导的聚合。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述至少一种抑制剂是吩噻嗪或吩噻嗪衍生物。
4.根据权利要求1、2或3所述的方法，其特征在于，所述至少一种抑制剂选自以下的群组：
5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其特征在于，使用好氧和厌氧抑制剂的混合物作为抑制剂，例如至少一种氢醌衍生物...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种用于对粘附有未反应树脂的部件、特别是利用光刻生成制造工艺制造的部件进行清洁的方法，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述抑制剂阻止所述树脂在>70℃，优选>100℃的温度下的热和/或光诱导的聚合。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述至少一种抑制剂是吩噻嗪或吩噻嗪衍生物。
4.根据权利要求1、2或3所述的方法，其特征在于，所述至少一种抑制剂选自以下的群组：
5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其特征在于，使用好氧和厌氧抑制剂的混合物作为抑制剂，例如至少一种氢醌衍生物或苯酚衍生物与至少一种吩噻嗪或吩噻嗪衍生物的混合物。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其特征在于，所述至少一种抑制剂的浓度为所述清洁介质的50ppm至20vol.-％，优选为500ppm至10vol.-％，特别是1.000ppm至5vol.-％。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，其特征在于，将氧气引入所述蒸馏单元的池中，优选在存在好氧抑制剂的情况下引入。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法，其特征在于，所述清洁介质以流体循环的方式被连续地输送，其中所述清洁介质从储存容器或所述清洁室中被引出，被引导通过所述蒸馏单元，并且被引导回所述清洁室或所述储存容器。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的方法，其特征在于，将所述清洁介质，特别是来自所述蒸馏单元的清洁介质，以蒸汽的形式引入所述清洁室中。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的方法，其特征在于，所述部件在布置于构建平台上的状态下被引入所述清洁室中。
11.根据权利要求1至9中任一项所述的方法，其特征在于，所述部件在单独的状态下被引入所述清洁室中。
12.根据权利要求1至11中任一项所述的方法，其特征在于，所述部件布置在流体可渗透的容器中，例如笼、网或篮中，特别是紧固在所述流体可渗透的容器中，并以这种形式经历所述清洁步骤。
13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述流体可渗透的容器在所述清洁步骤期间围绕至少一个轴旋转。
14.根据权利要求1至13中任一项所述的方法，其特征在于，在所述部件与所...
【专利技术属性】
技术研发人员：M·普法芬格，M·库里，
申请(专利权)人：库比科有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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