【技术实现步骤摘要】
专利
本专利技术总体上涉及x射线分析,特别涉及用于提高x射线衍射成像(xrdi)的分辨率的方法和系统。
技术介绍
0、专利技术背景
1、已经开发了各种技术来提高x射线衍射成像(xrdi)的分辨率,x射线衍射成像(xrdi)也被称为x射线形貌术(x-ray topography),用于检测半导体衬底中的晶体缺陷。
2、例如,美国专利9,335,282描述了一种x射线形貌装置,其能够将进入样品的期望特征x射线与从x射线源辐射的x射线分离,并增大期望特征x射线的辐照区域。x射线形貌装置包括:x射线源,其用于从细焦点辐射x射线,x射线包含预定特征x射线;光学系统,该光学系统包括具有对应于预定特征x射线的分级多层间距的多层镜,该光学系统被配置成使在多层镜上反射的x射线进入样品;以及x射线检测器,其用于检测衍射的x射线。多层反射镜包括具有抛物线横截面的弯曲反射表面,并且x射线源的细焦点被设置在弯曲反射表面的焦点上。
技术实现思路
0、专利技术概述
1、本文描述
...【技术保护点】
1.一种X射线系统的检测器组件,所述检测器组件包括:
2.根据权利要求1所述的检测器组件,还包括设置在所述第一表面上的附加FOP,所述附加FOP包括(i)附加光纤和(ii)第三表面,所述附加光纤平行于所述法线设置,所述第三表面平行于所述第一表面并具有设置在所述第三表面上的附加闪烁体层。
3.根据权利要求2所述的检测器组件,其中,所述X射线束包括(i)第一X射线束和(ii)第二X射线束,所述第一X射线束沿具有相对于所述法线的第一角度的第一方向从样品发射,所述第二X射线束沿具有相对于所述法线的第二角度的第二方向从所述样品衍射,所述第二角度大于所述第
...【技术特征摘要】
1.一种x射线系统的检测器组件,所述检测器组件包括:
2.根据权利要求1所述的检测器组件,还包括设置在所述第一表面上的附加fop,所述附加fop包括(i)附加光纤和(ii)第三表面,所述附加光纤平行于所述法线设置,所述第三表面平行于所述第一表面并具有设置在所述第三表面上的附加闪烁体层。
3.根据权利要求2所述的检测器组件,其中,所述x射线束包括(i)第一x射线束和(ii)第二x射线束,所述第一x射线束沿具有相对于所述法线的第一角度的第一方向从样品发射,所述第二x射线束沿具有相对于所述法线的第二角度的第二方向从所述样品衍射,所述第二角度大于所述第一角度,其中,响应于接收到所述第二x射线束,所述fop和所述附加fop被配置成在所述第一表面上分别产生第一光斑和第二光斑,并且其中,所述第二光斑小于所述第一光斑。
4.根据权利要求3所述的检测器组件,其中,响应于接收到所述第一x射线束,所述fop和所述附加fop被配置成在所述第一表面上分别产生第三光斑和第四光斑,并且其中,所述第四光斑小于所述第三光斑。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的检测器组件,其中,所述fop的所述一根或更多根光纤以相对于所述第一表面的第一斜角和相对于所述第二表面的第二斜角设置。
6.根据权利要求5所述的检测器组件,其中,所述第一斜角和所述第二斜角相等。
7.一种用于x射线分析的系统,所述系统包括:
8.根据权利要求7所述的系统,还包括处理器,所述处理器被配置成基于所述电信号来执行所述x射线分析。
9.根据权利要求8所述的系统,其中,所述第二x射线束包括沿平行于所述法线的第一方向从所述样品发射的第一波束,以及沿倾斜于所述法线的第二方向从所述样品衍射的第二波束,其中,响应于接收到所述第一波束和所述第二波束,(i)所述fop被配置成在所述第一表面上分别产生第一光斑和第二光斑,并且(ii)附加fop被配置成在所述第一表面上分别产生第三光斑和第四光斑,并且其中,所述处理器被配置成使用所述第二光斑和所述第三光斑来执行所述x射线分析。
10.根据权利要求8所述的系统,其中,所述样品被定位在所述源组件和所述检测器组件之间,其中,所述源组件被配置成引导所述第一x射线束以照射到所述样品的第三表面上,并且所述检测器组件被配置成检测已在所述第三表面处进入所述样品、在穿过所述样品时被衍射并在与所述第三表面相对的第四表面处离开所述样品的所述第二x射线束,并且其中,所述处理器被配...
【专利技术属性】
技术研发人员:理查德·撒克·拜瑟韦,
申请(专利权)人:布鲁克科技公司,
类型:发明
国别省市:
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