一种半导体用高压自成形膜片阀制造技术

技术编号:43161969 阅读:18 留言:0更新日期:2024-11-01 19:55
本发明专利技术涉及膜片阀技术领域,具体公开了一种半导体用高压自成形膜片阀,包括与管道连接的阀体,所述阀体内设置有凹腔和第一L型阀道以及第二L型阀道,所述第一L型阀道通过凹腔与第二L型阀道连通,所述凹腔内活动设置有阀杆,所述阀体上螺纹连接有六角螺母,所述六角螺母的内围边贯穿有与阀杆滑动连接的压帽,所述压帽与阀体之间压紧有上膜片和下膜片;本发明专利技术相比较传统的无挠度变化的膜片阀,本膜片阀利用高压膜片自成形方式保障了阀体破空操作的进行,使上膜片和下膜片的挠度得以改变,也有助于延长膜片的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及膜片阀,特别是涉及一种半导体用高压自成形膜片阀


技术介绍

1、在半导体制程工业中,芯片生产要经历几百道工序,就会用到大量特殊气体。这些特殊气体需要用从气瓶传输到管道,再从管道运输到工序步骤中进行应用,这其中就需要利用到膜片阀。

2、传统的膜片与阀芯的连接关系分为两种,接触一体式和非接触式,接触一体式是阀芯的底部与膜片嵌接,两者为一体结构,膜片随着阀芯的移动而移动,但这种阀芯膜片接触一体式工艺较为繁琐,在膜片更换时,其拆装操作繁琐,且成本较高;非接触式的阀芯膜片是利用自身弹性效果好的膜片配合阀芯使用,当无需密封时,膜片会在自身弹性作用下跟随阀芯位移,使阀道畅通,然而,这种非接触膜片在半导体制作工艺的应用中会涉及抽真空(破空)操作,就使得该非接触膜片自然弹形小于虹吸力,会发生膜片堵塞密封阀道的情况,影响阀体进行抽真空操作

3、因此,我们提供一种半导体用高压自成形膜片阀,以解决上述问题。


技术实现思路

1、(一)要解决的技术问题

2、本专利技术所要解决的问题是提供本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种半导体用高压自成形膜片阀,包括与管道连接的阀体(10),其特征在于:所述阀体(10)内设置有凹腔(14)和第一L型阀道(11)以及第二L型阀道(12),所述第一L型阀道(11)通过凹腔(14)与第二L型阀道(12)连通,所述凹腔(14)内活动设置有阀杆(5),所述阀体(10)上螺纹连接有六角螺母(9),所述六角螺母(9)的内围边贯穿有与阀杆(5)滑动连接的压帽(6),所述压帽(6)与阀体(10)之间压紧有上膜片(7)和下膜片(8);

2.如权利要求1所述的半导体用高压自成形膜片阀,其特征在于:所述阀体(10)的上部设置有靠近凹腔(14)的台阶,所述下膜片(8)的外围边...

【技术特征摘要】

1.一种半导体用高压自成形膜片阀,包括与管道连接的阀体(10),其特征在于:所述阀体(10)内设置有凹腔(14)和第一l型阀道(11)以及第二l型阀道(12),所述第一l型阀道(11)通过凹腔(14)与第二l型阀道(12)连通,所述凹腔(14)内活动设置有阀杆(5),所述阀体(10)上螺纹连接有六角螺母(9),所述六角螺母(9)的内围边贯穿有与阀杆(5)滑动连接的压帽(6),所述压帽(6)与阀体(10)之间压紧有上膜片(7)和下膜片(8);

2.如权利要求1所述的半导体用高压自成形膜片阀,其特征在于:所述阀体(10)的上部设置有靠近凹腔(14)的台阶,所述下膜片(8)的外围边置于台阶上,所述压帽(6)的下端设置有与台阶配合的抵凸,所述压帽(6)的抵凸压在上膜片(7)的外围边上。

3.如权利要求1所述的半导体用高压自成形膜片阀,其特征在于:所述阀杆(5)的外围边与压帽(6)的内壁滑动连接,所述阀杆(5)上设置有第二o型圈(502),所述阀芯(501)的直径小于阀杆(5)的直径。

4.如权利要求1所述的半导体用高压自成形膜片阀,其特征在于:所述阀体(10)处于关闭时,所述阀芯(501)将上膜片(7)和下膜片(8)抵压在配合部(13)上,所述第一l型阀道(11)和第二l型阀道(12)被下膜片(8)封堵。

5.如权利要求1所述的半导体用高压自成形膜片阀,其特征在于:所述阀体(10)处于开启时,所述阀芯(501)和上膜片(7)以及下膜片(8...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨波
申请(专利权)人:科哲上海阀门有限公司
类型:发明
国别省市:

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