一种用于提高方阻均匀性的管式扩散炉制造技术

技术编号:43139214 阅读:17 留言:0更新日期:2024-10-29 17:43
本技术公开一种用于提高方阻均匀性的管式扩散炉,属于晶体硅电池扩散设备领域,包括扩散炉炉管,所述扩散炉炉管包括炉口端和炉尾端,所述炉尾端连通有大流量气体进气管路,所述扩散炉炉管的周侧连通有至少一排通源气体进气管,一排中的多个所述通源气体进气管沿所述扩散炉炉管的中轴线等间隔排列。采用本技术的管式扩散炉对电池硅片进行扩散,能大大降低了工艺调试的难度,所制备的电池片方阻一致性好。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于晶体硅电池扩散设备领域,具体涉及一种用于提高方阻均匀性的管式扩散炉


技术介绍

1、在晶体硅太阳能电池生产中,扩散工艺的主要用途是在高温条件下对太阳能电池片进行掺杂形成pn结。扩散制备pn结的工艺对于太阳能电池的转换效率具有重要影响,是太阳能电池生产中极为重要的工序。扩散就是物质分子从高浓度区域向低浓度区域转移,直到均匀分布的现象。扩散的速率与物质的浓度梯度成正比。在半导体pn结的形成过程中,自由电子和空穴的扩散运动是基本依据,扩散速度在气体中最大,液体中其次,固体中最小,而且浓度差越大,温度越高,参与的粒子质量越小,扩散速度也越快。

2、现有技术的扩散石英炉管的炉体长度大概有4米左右,通源方式有两种,炉口通源,或者炉尾通源,两种方式均会导致远离通源口的一段通源浓度偏低,扩散后同一根炉管方阻值差异较大,对后续产品一致性造成很大影响,工艺调试难度大。

3、为解决通源气体分布不均匀的问题,公开号为cn206143306u的中国技术专利提出一种管式pecvd机台喷气管路,在石英炉管中设置有位于所述炉口和所述炉尾之间的特气管路,所本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于提高方阻均匀性的管式扩散炉,其特征在于,包括扩散炉炉管(1),所述扩散炉炉管(1)包括炉口端和炉尾端,所述炉尾端连通有大流量气体进气管路(4),所述扩散炉炉管(1)的周侧连通有至少一排通源气体进气管,一排中的多个所述通源气体进气管沿所述扩散炉炉管(1)的中轴线等间隔排列。

2.根据权利要求1所述的用于提高方阻均匀性的管式扩散炉,其特征在于,每个所述通源气体进气管分别连接一个流量阀。

3.根据权利要求2所述的用于提高方阻均匀性的管式扩散炉,其特征在于,所述通源气体进气管设置为一排,位于所述扩散炉炉管(1)的顶部。

4.根据权利要求2所述的用于...

【技术特征摘要】

1.一种用于提高方阻均匀性的管式扩散炉,其特征在于,包括扩散炉炉管(1),所述扩散炉炉管(1)包括炉口端和炉尾端,所述炉尾端连通有大流量气体进气管路(4),所述扩散炉炉管(1)的周侧连通有至少一排通源气体进气管,一排中的多个所述通源气体进气管沿所述扩散炉炉管(1)的中轴线等间隔排列。

2.根据权利要求1所述的用于提高方阻均匀性的管式扩散炉,其特征在于,每个所述通源气体进气管分别连接一个流量阀。

3.根据权利要求2所述的用于提高方阻均匀性的管式扩散炉,其特征在于,所述通源气体进气管设置为一排,位于所述扩散炉炉管(1)的顶部。

4.根据权利要求2所述的用于提高方阻均匀性的管式扩散炉,其特征在于,所述通源气体进气管设置为两排,两排所述通源气体进气管对称分布在所述扩散炉炉管(1)的两对侧。

5.根据权利要求4所述的用于提高方阻均匀性的管式扩散炉,其特征在于,两排所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:洪成浩闫用用刘向东徐宸兰李宁蔡伦
申请(专利权)人:一道新能源科技股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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