【技术实现步骤摘要】
本公开涉及粉体处理领域，特别涉及一种等离子体反射组件、一种粉体处理装置、以及一种粉体处理方法。
技术介绍
1、金属粉体和陶瓷粉体，在汽车、机械、电子、3d打印以及半导体等领域有着广泛的应用。
2、为达到粉体的应用要求，通常需要对原料粉体进行处理，以获得在形貌、纯度等方面符合应用要求的粉体。等离子体通常被用于对粉体进行处理，等离子体具有能量高等优势，对于将粉体球化处理应用较多。
3、对于常规的等离子体处理粉体工艺或装置，等离子体的能量用于升高原料粉体的温度，甚至使其熔融。然而，等离子体的能量往往难以得到充分利用，存在粉体的处理效率较低的问题，或为了保证粉体处理效率而导致能耗过高的问题。
4、因此，需要开发一种新的粉体处理装置与粉体处理办法。
技术实现思路
1、为解决等离子体能量利用率不高的问题，本公开实施例提供一种等离子体反射组件、一种粉体处理装置、以及一种粉体处理方法。
2、本公开实施例提供一种等离子体反射组件，所述等离子体反射组件包括：反射...
【技术保护点】
1.一种等离子体反射组件，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的等离子体反射组件，其特征在于，所述朝向等离子体设置包括：所述反射面为连续的环形凹面，所述反射面为旋转抛物面的一部分，所述旋转抛物面的焦点位于所述等离子体的第一温区，在所述等离子体用于处理粉体时，所述第一温区为所述粉体在所述等离子体中的输送路径。
3.根据权利要求1所述的等离子体反射组件，其特征在于，还包括冷却组件，以对所述反射面冷却。
4.根据权利要求3所述的等离子体反射组件，其特征在于，还包括：若干腔壁，所述反射面所在的壁与所述若干腔壁共同形成腔体，所述腔体内适
【技术特征摘要】
1.一种等离子体反射组件，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的等离子体反射组件，其特征在于，所述朝向等离子体设置包括：所述反射面为连续的环形凹面，所述反射面为旋转抛物面的一部分，所述旋转抛物面的焦点位于所述等离子体的第一温区，在所述等离子体用于处理粉体时，所述第一温区为所述粉体在所述等离子体中的输送路径。
3.根据权利要求1所述的等离子体反射组件，其特征在于，还包括冷却组件，以对所述反射面冷却。
4.根据权利要求3所述的等离子体反射组件，其特征在于，还包括：若干腔壁，所述反射面所在的壁与所述若干腔壁共同形成腔体，所述腔体内适于通入冷却媒介。
5.根据权利要求4所述的等离子体反射组件，其特征在于，所述腔体设有进口和出口，所述腔体包括层叠的第一腔和第二腔，所述第一腔和所述第二腔连通。
6.根据权利要求5所述的等离子体反射组件，其特征在于，所述第一腔更靠近所述反射面，所述第一腔设有通道，所述通道与所述进口和所述第二腔连通；所述第二腔与所述出口连通；冷却媒介适于通过所述进口输送至所述第一腔，并经由所述第二腔被输送通过所述出口排出所述腔体。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的等离子体反射组件，其特...
【专利技术属性】
技术研发人员：韩刚，韩启航，戚延龄，郭若冰，
申请(专利权)人：苏州云火材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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