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具有改善持久力的化妆品制造技术

技术编号:430959 阅读:175 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及用于皮肤,嘴唇和/或表皮的化妆和/或护理的化妆品组合物,其包括特定的硅氧烷聚合物和低分子量烃酯油。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种化妆品组合物,其特征在于在生理学可接受的介质中包括至少一种含有少于40个碳原子的烃酯和至少一种通式(Ⅰ)的硅氧烷聚合物:R↑[1]↓[a]R↑[2]↓[b]R↑[3]↓[c]SiO↓[(4-a-b-c)/2](Ⅰ)其中:-a,b和c定义如下:a在1-2.5之间变化,b和c彼此独立地在0.001-1.5之间变化,-R↑[1],在每个位置上相同或不同,选自于:-C↓[1]-C↓[30]烷基,其合适地被一个或多个氟原子、氨基和/或羧基取代,-芳基或芳烷基,-通式(Ⅱ)的基团:-C↓[d]H↓[2d]-O-(C↓[2]H↓[4]O)↓[e](C↓[3]H↓[6]O)↓[f]R↑[4](Ⅱ)其中:-R↑[4]为C↓[1]-C↓[30]烃基或基团R↑[5]-(CO)-,其中R↑[5]为C↓[1]-C↓[30]烃基,-d,e和f为整数,其中d为0-15的整数,e和f彼此独立地为0-50的整数,-及其组合,-R↑[2]为通式(Ⅲ)的基团:-Q-O-X(Ⅲ)其中-Q为C↓[2]-C↓[20]的二价烃基,其可包括至少一个醚键和/或至少一个酯键,并且-X为多羟基烃基,条件是,当R↑[2]为通式(ⅢA)的基团时,-C↓[3]H↓[6]-O[CH↓[2]CH(OH)CH↓[2]O]↓[n]H(ⅢA)其中n为1-5的整数,R↑[1]为除C↓[12]烷基之外的基团,-R↑[3]为通式(Ⅳ)的有机硅氧烷:-C↓[g]H↓[2g]-(*iO)↓[h]-SiR↓[3](Ⅳ)其中:-基团R彼此独立的表示选自下组的取代基:C↓[1]-C↓[30]烷基,其合适地被一个或多个氟原子取代;芳基和芳烷基,-g和h为整数,其中g为1-5的整数,h为0-500的整数,并且相对于组合物的总重量含有15重量%的挥发油。...

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:沙维尔伯林清水桃子
申请(专利权)人:欧莱雅
类型:发明
国别省市:FR[法国]

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