【技术实现步骤摘要】
本技术涉及石英舟清洗，具体为一种硅片扩散用石英舟激光清洗设备。
技术介绍
1、目前厂区内的石英舟在进行硅片扩散时，首先是将硅片插入石英舟上，再将石英舟送入扩散炉中进行扩散，待硅片达到一定温度并完成扩散反应时使其自然冷却，最后将石英舟从扩散炉中取出；
2、然而，石英舟在长时间参与硅片扩散工艺后，其表面可能会附着多种类型的污染物或杂质污垢，经过检验得出，这些污染物或杂质污垢是由于扩散工艺过程中涉及到三氯氧磷气体与氧气的反应，会在石英舟表面沉积磷原子，而在这个过程中，会有中间产物五氧化二磷形成并少量附着在石英舟上；另外，五氧化二磷与空气中的水汽接触会形成偏磷酸，这种偏磷酸也会对硅片造成污染；其次，由于硅片需要在石英舟上插卸，两者之间的频繁摩擦也会在石英舟舟齿处留下硅粉，这些硅粉不仅会在插片时导致硅片错齿或产生崩边，而且长时间积累后还会影响石英舟的使用效果；
3、因此，需要对石英舟上形成的杂质和污垢进行清除，而厂区内一般是通过人工抛光的方式进行去除，去除效率较低，基于此，需要一种快速对石英舟表面上的杂质和污垢进行有效清除...
【技术保护点】
1.一种硅片扩散用石英舟激光清洗设备，其特征在于：该激光清洗设备包括转盘机构和激光清洗机构；
2.根据权利要求1所述的一种硅片扩散用石英舟激光清洗设备，其特征在于：在转盘的石英舟承载面上垂直固定设有若干块分隔板，由转盘石英舟承载面上相邻两块分隔板之间的间隙形成用于放置石英舟的石英舟放置区域。
3.根据权利要求1所述的一种硅片扩散用石英舟激光清洗设备，其特征在于：所述的激光清洗机构位于其中一个石英舟放置区域的正上方。
4.根据权利要求2所述的一种硅片扩散用石英舟激光清洗设备，其特征在于：所述的分隔板设置有六块，相邻两块分隔板的安装夹角
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【技术特征摘要】
1.一种硅片扩散用石英舟激光清洗设备，其特征在于：该激光清洗设备包括转盘机构和激光清洗机构；
2.根据权利要求1所述的一种硅片扩散用石英舟激光清洗设备，其特征在于：在转盘的石英舟承载面上垂直固定设有若干块分隔板，由转盘石英舟承载面上相邻两块分隔板之间的间隙形成用于放置石英舟的石英舟放置区域。
3.根据权利要求1所述的一种硅片扩散用石英舟激光清洗设备，其特征在于：所述的激光清洗机构位于其中一个石英舟放置区域的正上方。
4.根据权利要求2所述的一种硅片扩散用石英舟激光清洗设备，其特征在于：所述的分隔板设置有六块，相邻两块分隔板的安装夹角相同。
5.根据权利要求1所述的一种硅片扩散用石英舟激光清洗设备，其特征在于：...
【专利技术属性】
技术研发人员：李宏亮，李洪，陈学传，丁峰，程瑞，文香炎，
申请(专利权)人：江苏腾驰实业有限公司，
类型：新型
国别省市：
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