【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及热控材料表面处理,特别涉及一种镁合金低吸收率有机热控涂层及其制备方法。
技术介绍
1、热控涂层主要是通过改变物体表面的太阳吸收率和红外发射率两项参数对涂层表面温度进行控制,是航天器热控系统中使用最普遍的热控材料之一。当航天器运行至远日点时,外部太阳辐射能量降低,热源主要来自内部元件,因此设备外表面温度较低,内表面温度较高,导致出现材料外部升温慢,内部降温慢的问题;当航天器运行至近日点时,其热源主要来源于外部空间辐射,因此设备的外表面温度较高,因此导致材料外部升温快,热控涂层通过航天器的表面热物理性质,使其在辐照热交换中有效的控制航天器温度,最终在内外部热交换进程中,内部设备、仪器等的工作温度不超过限定范围,保证航天器的正常运行。
2、目前国内航天器使用的热控涂层分两类,第一种为无机涂层如阳极氧化涂层、微弧氧化涂层等,通过氧化层物质的特性降低涂层吸收率,但其涂层的吸收率仍然较高,无法满足新代航天器高稳定性的要求。第二种为常用的粘合性白色涂料或有机涂层,其优点是涂层吸收率较低,缺点是存在涂料或有机涂层与基体结合力不
...【技术保护点】
1.一种镁合金低吸收率有机热控涂层,其特征在于,包括微弧氧化涂层形成的底涂层和透明溶胶凝胶涂层形成的面涂层;
2.根据权利要求1所述的镁合金低吸收率有机热控涂层,其特征在于:所述底涂层厚度为20~30μm,所述面涂层厚度为40~50μm。
3.一种权利要求1或2任一项所述镁合金低吸收率有机热控涂层的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
4.根据权利要求3所述的镁合金低吸收率有机热控涂层的制备方法,其特征在于,所述微弧氧化工艺包括:
5.根据权利要求4所述的镁合金低吸收率有机热控涂层的制备方法,其特征在于,所述电解液包括偏
...【技术特征摘要】
1.一种镁合金低吸收率有机热控涂层,其特征在于,包括微弧氧化涂层形成的底涂层和透明溶胶凝胶涂层形成的面涂层;
2.根据权利要求1所述的镁合金低吸收率有机热控涂层,其特征在于:所述底涂层厚度为20~30μm,所述面涂层厚度为40~50μm。
3.一种权利要求1或2任一项所述镁合金低吸收率有机热控涂层的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
4.根据权利要求3所述的镁合金低吸收率有机热控涂层的制备方法,其特征在于,所述微弧氧化工艺包括:
5.根据权利要求4所述的镁合金低吸收率有机热控涂层的制备方法,其特征在于,所述电解液包括偏硅酸钠40~50g/l,氨水10~20ml/l,氟化钾2~4g/l,氢氧化钾4~6g/l,戊己醇30~50ml/l,纳米二氧化锆15~20g/l。
6.根据权利要求4所述的镁合金低吸收率有机热控涂层的制备方法,其特征在于,所述微弧氧化工艺的电流密度4~...
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