一种黄色氧化钨钛靶材的烧结方法及黄色氧化钨钛靶材技术

技术编号:43024007 阅读:17 留言:0更新日期:2024-10-18 17:25
本发明专利技术属于靶材制备技术领域,公开了一种黄色氧化钨钛靶材的烧结方法及黄色氧化钨钛靶材,该黄色氧化钨钛靶材的烧结方法,包括如下步骤:步骤1:将氧化钨钛靶坯以0.5‑1℃/min的升温速率升温至800℃,过程中持续通氧,氧气流量为15‑20L/min;步骤2:以2‑3℃/min的升温速率由800℃升温至1150℃‑1200℃,保温1‑3h,过程中持续通氧,氧气流量为40‑60L/min。本发明专利技术公开了一种黄色氧化钨钛靶材的烧结方法,采用两段升温的方式,在第一段升温阶段通过较低的升温速率和较低氧气流量来提高靶材的致密度;在第二升温阶段,采取较高的升温速率和较高的氧气流量来避免三氧化钨失活导致钨的价位发生变化。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及靶材制备,具体涉及一种黄色氧化钨钛靶材的烧结方法及黄色氧化钨钛靶材


技术介绍

1、靶材是磁控溅射过程中的基本耗材,不仅使用量大,而且靶材质量的好坏对薄膜的性能起着至关重要的决定作用。靶材应用领域比较广泛,主要包括光学靶材、显示薄膜用靶材、半导体领域用靶材、记录介质用靶材、超导靶材等;其中半导体领域用靶材、显示用靶材和记录介质用靶材是当前使用最为广泛的三大靶材。

2、为提升薄膜制备速率和保证薄膜的生长质量,溅射靶材要达到一定的指标要求;近年来,液晶显示、有源有机发光二极管显示以及柔性显示等平板显示技术迅猛发展,作为核心部件的薄膜晶体管(tft)的重要性不言而喻;其中,基于氧化物半导体的tft以其较高的迁移率、良好的电学均匀性、高的可见光透过性、较低的制备温度、以及较低的成本等优势受到广泛的关注。

3、氧化钨在化学、机械传感器、选择性催化、电化学工业和环境工程等各方面的应用引起了人们的广泛关注.三氧化钨(wo3)是一种直接带隙较宽(3.2ev)的n型半导体,具有非常高的化学稳定性和较高的电导率,以及抗高温的能力.研究表明本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种黄色氧化钨钛靶材的烧结方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的黄色氧化钨钛靶材的烧结方法,其特征在于,所述氧化钨钛靶坯通过以下步骤制备得到:

3.根据权利要求2所述的黄色氧化钨钛靶材的烧结方法,其特征在于,所述步骤a具体包括如下步骤:

4.根据权利要求3所述的黄色氧化钨钛靶材的烧结方法,其特征在于,所述步骤a2的具体操作为:将氧化钛粉末与纯水、第一分散剂加入混料桶中以60-200r/min的转速进行预分散20-40min,然后打入磨砂机中以1200-1800r/min的研磨转速进行研磨10-22h得到固含量为60-70%的第一...

【技术特征摘要】

1.一种黄色氧化钨钛靶材的烧结方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的黄色氧化钨钛靶材的烧结方法,其特征在于,所述氧化钨钛靶坯通过以下步骤制备得到:

3.根据权利要求2所述的黄色氧化钨钛靶材的烧结方法,其特征在于,所述步骤a具体包括如下步骤:

4.根据权利要求3所述的黄色氧化钨钛靶材的烧结方法,其特征在于,所述步骤a2的具体操作为:将氧化钛粉末与纯水、第一分散剂加入混料桶中以60-200r/min的转速进行预分散20-40min,然后打入磨砂机中以1200-1800r/min的研磨转速进行研磨10-22h得到固含量为60-70%的第一浆料;其中,第一分散剂占加入的氧化钛粉末、纯水和第一分散剂总质量的1-5%。

5.根据权利要求3所述的黄色氧化钨钛靶材的烧结方法,其特征在于,所述步骤a3的具体操作为:往第一浆料中加入氧化钨粉末和第二分散剂以60-200r/min的转速进行预分散20-40min,然后研打入磨砂机中以1200-1800r/min的研磨转速进行研磨8-15h得到固含量为60-70%的第二浆料;其中,第二分散剂占加入的氧化钨粉末和第二分散剂总质量的1-1...

【专利技术属性】
技术研发人员:罗斯诗李开杰王奇峰顾德盛张兴宇
申请(专利权)人:先导薄膜材料广东有限公司
类型:发明
国别省市:

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