【技术实现步骤摘要】
本技术属于半导体设备，具体地涉及一种离子束分析装置。
技术介绍
1、例如对于离子注入工艺，在进行离子注入前，需要先使用离子束分析装置(profiler)接收离子束，检测离子束是否符合工艺要求。现有技术方案例如图6所示，现有的离子束分析装置a主要结构为：包括有一个挡板，挡板上开设有一个条状狭缝，挡板背向离子束b的一侧设有石墨的检测器(本领域中一般称为cup)。在进行检测分析时，离子束分析装置沿离子束b截面长度方向进行扫描，从而得到各个点位的检测数据，用于分析离子束b在条形截面长度方向的流强均匀性等特征。但是，此种现有的离子束分析装置a需要移动很长的距离进行数据采集，例如离子束b截面的长度一般大于300mm，现有的离子束分析装置a上下移动的距离要大于离子束b的截面长度，例如为460mm，因此检测分析所需的时间较长；在检测分析时，设备中的其他部分都处在等待状态，导致时间的浪费。
技术实现思路
1、基于现有技术存在的技术问题，本技术提供一种离子束分析装置，解决现有方案分析所需的时间较长的问题，实现...
【技术保护点】
1.一种离子束分析装置，所述离子束(B)的截面为条形，其特征在于，包括有壳体(1)，所述壳体(1)在朝向所述离子束(B)的一侧面为挡板(2)，在所述挡板(2)上沿所述离子束(B)截面的长度方向并排地间隔分布有两个以上的狭缝(3)；在所述壳体(1)内设置有两个以上的检测器(4)，所述检测器(4)与所述狭缝(3)一一对应；所述壳体(1)连接有机械臂(5)。
2.根据权利要求1所述的离子束分析装置，其特征在于，每个所述检测器(4)均分别连接有电线，所述机械臂(5)为中空结构，所述电线沿着所述机械臂(5)内部设置。
3.根据权利要求1所述的离子束分析装...
【技术特征摘要】
1.一种离子束分析装置，所述离子束(b)的截面为条形，其特征在于，包括有壳体(1)，所述壳体(1)在朝向所述离子束(b)的一侧面为挡板(2)，在所述挡板(2)上沿所述离子束(b)截面的长度方向并排地间隔分布有两个以上的狭缝(3)；在所述壳体(1)内设置有两个以上的检测器(4)，所述检测器(4)与所述狭缝(3)一一对应；所述壳体(1)连接有机械臂(5)。
2.根据权利要求1所述的离子束分析装置，其特征在于，每个所述检测器(4)均分别连接有电线，所述机械臂(5)为中空结构，所述电线沿着所述机械臂(5)内部设置。
3.根据权利要求1所述的离子束分析装置，其特征在于，所述狭缝(3)为条形。
4.根据权利要求3所述的离子束分析装置，其特征在于，所述狭...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈炯，卢合强，陈维，
申请(专利权)人：天津鑫钰半导体设备有限公司，
类型：新型
国别省市：
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