【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于微电子，尤其涉及一种基于环形驻波谐振腔的并行mpcvd装置及方法。
技术介绍
1、目前，高品质金刚石和硅晶制造和掺杂中广泛采用微波等离子体化学气相沉积(mpcvd)方法，以该类方法为基础的设备是制备高品质金刚石膜及进行复杂掺杂工艺研究的重要基础设备。
2、通常，石英钟罩式mpcvd装置包含有微波能量馈送系统、圆柱形谐振腔体、载气输送系统和压力控制系统、石英钟罩、沉积衬底载体平台、冷却和温度控制系统、载体平台移动机械系统和其他辅助系统。石英钟罩和圆柱形谐振腔共轴，位于圆柱形谐振腔体内部。圆盘形沉积衬底载体平台位于圆柱形谐振腔底部。微波能量和载气输送系统通常从谐振腔体顶部馈入能量和气体。主流的微波系统工作于2.45ghz或者918mhz。
3、在工作过程中，石英钟罩内为低压气密环境，微波馈电在谐振腔内创造局部强交变电磁场。在此交变电磁场的激励下，钟罩中的低压气体将会被电离而形成位于沉积衬底载体平台上方的等离子体基团，这些等离子体中被激发出来的化学活性基团扩散至位于腔体底部的沉积衬底载体平台上的衬底表面后...
【技术保护点】
1.一种基于环形驻波谐振腔的并行MPCVD装置，其特征在于，包含：
2.如权利要求1所述的基于环形驻波谐振腔的并行MPCVD装置，其特征在于，所述装置包含的多组石英钟罩、气体输送和压力控制系统、冷却系统及衬底生长载体平台独立构成子系统，并分别位于环形驻波波导谐振腔的多个波腹区域，形成多个并行反应腔。
3.如权利要求1所述的基于环形驻波谐振腔的并行MPCVD装置，其特征在于，所述装置包含的环形运输轨道系统位于环形谐振腔底部，用于实现生长载体平台在不同腔体之间的快速运转。
4.如权利要求1所述的基于环形驻波谐振腔的并行MPCVD装置，其...
【技术特征摘要】
1.一种基于环形驻波谐振腔的并行mpcvd装置，其特征在于，包含：
2.如权利要求1所述的基于环形驻波谐振腔的并行mpcvd装置，其特征在于，所述装置包含的多组石英钟罩、气体输送和压力控制系统、冷却系统及衬底生长载体平台独立构成子系统，并分别位于环形驻波波导谐振腔的多个波腹区域，形成多个并行反应腔。
3.如权利要求1所述的基于环形驻波谐振腔的并行mpcvd装置，其特征在于，所述装置包含的环形运输轨道系统位于环形谐振腔底部，用于实现生长载体平台在不同腔体之间的快速运转。
4.如权利要求1所述的基于环形驻波谐振腔的并行mpcvd装置，其特征在于，所述冷却系统包括用于控制各个反应腔内温度的独立冷却单元，确保化学气相沉积过程中的温度条件满足工艺要求，并实现各个反应腔内的均匀沉积效果。
5.一种如权利要求1所述装置的基于环形驻波谐振腔的并...
【专利技术属性】
技术研发人员：张鹏飞，张进成，程诗雨，张欢欢，任泽阳，
申请(专利权)人：西安电子科技大学，
类型：发明
国别省市：
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