与青稞旗叶面积主效QTL紧密连锁的分子标记及其应用制造技术

本发明专利技术公开了一个与青稞旗叶面积主效QTL紧密连锁的分子标记及其应用，属于基因工程领域，所述分子标记为InDel分子标记，所述InDel分子标记序列为ACGACGCT，位于青稞7H染色体第4940803位，当该InDel存在时，青稞具有较小的旗叶面积，当该InDel缺失时，具有较大的旗叶面积，定位参考基因组版本为大麦IBSC_v2。本发明专利技术的分子标记在小旗叶面积亲本‘达章紫’、大旗叶面积亲本‘昆仑10号’及其后代RIL群体中能正确分型，并在育种群体中可以高效、稳定、精准地辅助选择旗叶面积性状。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于基因工程领域，具体涉及一个与青稞旗叶面积主效qtl紧密连锁的分子标记及其应用。

技术介绍

1、青稞(hordeum vulgare l.var.nudum hook.f.)属于禾本科大麦属，叶片作为禾本科作物重要的光合器官，在作物生长发育过程中扮演着关键的角色，对调控植株分蘖、粒重、籽粒数和产量具有重要作用。旗叶是禾本科作物中距离穗部最近的一片叶，是产量形成的核心，至少可产生30％的籽粒光合产物。

2、旗叶面积与穗粒数、穗粒重和产量呈正相关，由旗叶长与宽共同决定。理想的旗叶形态可以使种群透光率达到最大化，而旗叶过长会导致叶片下垂而减少光合面积，因此，理想的旗叶形态对提高产量至关重要。研究证实，旗叶面积是复杂的数量性状，受遗传因子与环境因素共同调控。在小麦、水稻等禾本科作物中，与旗叶面积相关的qtl(quantitativetrait locus,qtl)已被研究报道；付金梅等对小麦旗叶面积开展qtl定位研究，检测到7个控制小麦旗叶面积的qtl，其中，4a染色体上检测到了主效qtl qflw，表型贡献率为10.13％～20.77％。本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.InDel分子标记在青稞旗叶面积性状预测或辅助育种上的应用，所述InDel分子标记序列为ACGACGCT，位于青稞7H染色体第4940803位，当该InDel存在时，青稞具有较小的旗叶面积，当该InDel缺失时，具有较大的旗叶面积，定位参考基因组版本为大麦IBSC_v2。

2.检测权利要求1所述的InDel分子标记的试剂。

3.根据权利要求2所述的试剂，其特征在于，所述试剂为KASP引物，所述KASP引物由正向引物F1、正向引物F2和反向引物R，所述正向引物F1核苷酸序列如SEQ ID No.1所示，正向引物F2核苷酸序列如SEQ ID No.2所示，反向引物...

【技术特征摘要】

1.indel分子标记在青稞旗叶面积性状预测或辅助育种上的应用，所述indel分子标记序列为acgacgct，位于青稞7h染色体第4940803位，当该indel存在时，青稞具有较小的旗叶面积，当该indel缺失时，具有较大的旗叶面积，定位参考基因组版本为大麦ibsc_v2。

2.检测权利要求1所述的indel分子标记的试剂。

3.根据权利要求2所述的试剂，其特征在于，所述试剂为kasp引物，所述kasp引物由正向引物f1、正向引物f2和反...

【专利技术属性】
技术研发人员：李新，杨景发，王寒冬，姚有华，
申请(专利权)人：青海大学，
类型：发明
国别省市：