【技术实现步骤摘要】
本技术涉及研磨分散设备领域,具体涉及一种装有多个研磨粉碎器件的研磨分散装置。
技术介绍
1、在涂料、纺织、电子材料等领域,制备超细颜料分散体时研磨和分散都是必不可少的步骤。卧式研磨机的研磨容器和主轴设在同一平面内,使得物料的流动方向和主轴的旋转方向相同,能够大大提高研磨效率,并且能够确保物料充分研磨、混合。卧式研磨机采用的开放式结构也便于拆卸、清洗、更换研磨介质。因此,在日常生产中,卧式研磨机已经成为研磨行业中不可或缺的重要设备之一,如专利cn214320366u、cn107755021a。然而在研磨过程中,研磨时间、研磨温度、研磨精度等都需要根据产品自身特性做出相应调整,单一的研磨结构并不能满足研磨不同阶段的需求。根据研磨精度的不同一般可将研磨分为粗磨和精磨,粗磨和精磨的主要区别在于研磨介质的选择和设备研磨元件精度。现有专利如cn205966042u、cn206897524u、cn219051539u等通过设置多个研磨仓并在每个研磨仓内放置不同大小的研磨介质来达到分级研磨的目的。这种设备确实具有较高的加工精度,但加工时间较长且不适用于
...【技术保护点】
1.一种研磨分散装置,其特征在于,包括研磨单元和分散单元;
2.根据权利要求1所述的一种研磨分散装置,其特征在于,所述第一研磨轴和第二研磨轴均呈圆筒状结构,无上下底;所述第一研磨轴、第二研磨轴与所述研磨罐同轴,所述第一研磨轴的筒半径为r1,第二研磨轴的筒半径为r2,r2:r1=1.2~3.0。
3.根据权利要求1或2所述的一种研磨分散装置,其特征在于,所述第一研磨轴的筒身上排布有粗磨棒销,所述第二研磨轴的筒身上排布精磨棒销,所述粗磨棒销间排布距离大于精磨棒销间排布距离;所述第一研磨轴和第二研磨轴除棒销分布以外的表面上设有规整空隙。
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【技术特征摘要】
1.一种研磨分散装置,其特征在于,包括研磨单元和分散单元;
2.根据权利要求1所述的一种研磨分散装置,其特征在于,所述第一研磨轴和第二研磨轴均呈圆筒状结构,无上下底;所述第一研磨轴、第二研磨轴与所述研磨罐同轴,所述第一研磨轴的筒半径为r1,第二研磨轴的筒半径为r2,r2:r1=1.2~3.0。
3.根据权利要求1或2所述的一种研磨分散装置,其特征在于,所述第一研磨轴的筒身上排布有粗磨棒销,所述第二研磨轴的筒身上排布精磨棒销,所述粗磨棒销间排布距离大于精磨棒销间排布距离;所述第一研磨轴和第二研磨轴除棒销分布以外的表面上设有规整空隙。
4.根据权利要求1所述的一种研磨分散装置,其特征在于,所述底座的端部上设有挡板,所述挡板能够抬起或落下;在所述第一研磨轴或第二研磨轴回缩时,挡板能够与所述第一研磨轴或第二研磨轴的外周接触。
5.根据权利要求4所述的一种研磨分散装置,其特征在于,所述挡板整体为环形柱体,其由多个相互连接的三角板组成;所述挡板的一端连接在底座上,另一端能够与第一研磨轴或第二研磨轴的外周接触;所述挡板上设有弹...
【专利技术属性】
技术研发人员:周玉树,周华,胡艺民,
申请(专利权)人:苏州世名科技股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
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