【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及太阳能电池,具体涉及一种双层多晶硅太阳能电池片的制备方法、太阳能电池及应用。
技术介绍
1、隧穿氧化层钝化接触太阳能电池(tunnel oxide passivated contact solarcell,topcon)是2013年在第28届欧洲pvsec光伏大会上德国fraunhofer太阳能研究所首次提出的一种新型钝化接触太阳能电池,首先在电池背面制备一层1~2nm的隧穿氧化层,然后再沉积一层掺杂多晶硅,二者共同形成了钝化接触结构,为硅片的背面提供了良好的界面钝化。
2、目前的topcon太阳能电池利用lpcvd(低压气相沉积,是在27~270pa的反应压力下进行的化学气相沉积,具有膜的质量和均匀性好、产量高、成本低、易于实现自动化的优点)工艺在硅片背面沉积隧穿氧化层和多晶硅,隧穿氧化层利用量子隧穿效应,既能让电子顺利通过,又可以阻止空穴的复合,与掺杂多晶硅共同形成背面钝化接触效应。
3、专利cn104733564a公开了一种多晶硅太阳能电池及其制作方法,该方法包括:对多晶硅基体进行酸溶液清洗;
...【技术保护点】
1.一种双层多晶硅太阳能电池片的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的一种双层多晶硅太阳能电池片的制备方法,其特征在于,步骤2的具体处理方法为:
3.根据权利要求2所述的一种双层多晶硅太阳能电池片的制备方法,其特征在于,步骤(1)中的氧化硅隧穿氧化层的厚度为1.5nm~2.1nm。
4.根据权利要求2所述的一种双层多晶硅太阳能电池片的制备方法,其特征在于,步骤(2)中的温度控制在600℃~620℃。
5.根据权利要求2所述的一种双层多晶硅太阳能电池片的制备方法,其特征在于,步骤(2)中的沉积时间控
...【技术特征摘要】
1.一种双层多晶硅太阳能电池片的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的一种双层多晶硅太阳能电池片的制备方法,其特征在于,步骤2的具体处理方法为:
3.根据权利要求2所述的一种双层多晶硅太阳能电池片的制备方法,其特征在于,步骤(1)中的氧化硅隧穿氧化层的厚度为1.5nm~2.1nm。
4.根据权利要求2所述的一种双层多晶硅太阳能电池片的制备方法,其特征在于,步骤(2)中的温度控制在600℃~620℃。
5.根据权利要求2所述的一种双层多晶硅太阳能电池片的制备方法,其特征在于,步骤(2)中的沉积时间控制在700s~1000s。<...
【专利技术属性】
技术研发人员:周珊合,刘大伟,何振雄,吴秋宏,
申请(专利权)人:绵阳炘皓新能源科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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