一种检测系统、检测方法、缺陷检测设备及缺陷检测方法技术方案

本发明专利技术涉及半导体前道检测技术领域，为一种暗场检测系统及方法，具体为一种检测系统、检测方法、缺陷检测设备及缺陷检测方法，通过在反射光路中配置位置传感器获取反射光路的检测光束方向，基于此方向确定运动平台是否具有高差；通过在反射光路中配置成像探测器获取反射光路在待测物表面形成的光斑的位置信息，基于位置信息确定光学系统是否存在误差，并实现光学系统的误差的调节。本发明专利技术实施例能够实现光学系统稳定性的要求。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体前道检测，为一种暗场检测系统及方法，具体为一种检测系统、检测方法、缺陷检测设备及缺陷检测方法。

技术介绍

1、对于晶圆的缺陷检测设备通常采用暗场扫描技术。当探测光照射在晶圆上时，在晶圆上存在缺陷的位置会产生散射光，该散射光被探测器接收到后，对该散射光进行收集分析能够获得晶圆的相关缺陷信息，从而实现晶圆的缺陷检测。

2、目前，晶圆表面缺陷检测常用的暗场扫描系统，存在检测稳定性不高、检测重复性精度差、检测效率低等问题。

技术实现思路

1、有鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种检测系统、检测方法、缺陷检测设备及缺陷检测方法，能够实现对于暗场检测的稳定性要求。

2、第一方面，本专利技术实施例提供了一种检测系统，包括暗场检测通道，所述暗场检测通道包括pmt，用于对待测物检测，还包括反射光路，所述反射光路中设置有成像探测器和位置传感器，所述位置传感器用来检测光束的方向，成像探测器检测光斑位置。

3、在一些具体实现方式中，所述系统还包括带有标记的漫反射板，所述成像探测本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种检测系统，包括暗场检测通道，所述暗场检测通道包括PMT，用于对待测物检测，其特征在于，还包括反射光路，所述反射光路中设置有成像探测器和位置传感器，所述位置传感器用来检测光束的方向，所述成像探测器检测光斑位置。

2.根据权利要求1所述的检测系统，其特征在于，所述系统还包括带有标记的漫反射板，所述成像探测器通过所述漫反射板检测光斑沿X方向和Y方向的位置。

3.根据权利要求1所述的检测系统，其特征在于，所述位置传感器用于获取所述反射光路中的全反射光。

4.根据权利要求1所述的检测系统，其特征在于，所述系统还设置有入射光路，所述入射光路通过反射镜呈角度...

【技术特征摘要】

1.一种检测系统，包括暗场检测通道，所述暗场检测通道包括pmt，用于对待测物检测，其特征在于，还包括反射光路，所述反射光路中设置有成像探测器和位置传感器，所述位置传感器用来检测光束的方向，所述成像探测器检测光斑位置。

2.根据权利要求1所述的检测系统，其特征在于，所述系统还包括带有标记的漫反射板，所述成像探测器通过所述漫反射板检测光斑沿x方向和y方向的位置。

3.根据权利要求1所述的检测系统，其特征在于，所述位置传感器用于获取所述反射光路中的全反射光。

4.根据权利要求1所述的检测系统，其特征在于，所述系统还设置有入射光路，所述入射光路通过反射镜呈角度的投射至所述待测物表面。

5.根据权利要求4所述的检测系统，其特征在于，在所述入射光路上设置有整形组件。

6.根据权利要求5所述的检测系统，其特征在于，所述整形组件包括至少两个柱透镜。

7.根据权利要求6所述的检测系统，其特征在于，所述整形组件沿入射光传播路径依次设置有第一柱透镜、圆透镜和第二柱透镜。

8.根据权利要求1所述的检测系统，其特征在于，所述系统还设置有入射光路，所述入射光路由分束器分为第一入射光路和第二入射光路，第一入射光路与第二入射光路通过分光镜形成对应的正入射光路和斜入射光路，所述反射光路包括与所述入射光路相对应的正反射光路和斜反射光路。

9.根据权利要求8所述的检测系统，其特征在于，所述正入射光路与所述待测物表面法线重合，所述斜入射光路与所述待测物表面法线具有70°～90°夹角。

10.根据权利要求8所述的检测系统，其特征在于，所述分束器用于对所述正入射光路和所述斜入射光路进行分时分束。

11.根据权利要求11所述的检测系统，其特征在于，所述分束器包括偏振片与pbs偏振分束器的组合器件或空间光调制器。

12.根据权利要求8所述检测系统，其特征在于，在所述正反射光路上设置有成像探测器，在所述斜反射光路中设置有位置传感器。

13.根据权利要求12所述的检测系统，其特征在于，所述斜反射光路经由聚焦镜后进入所述位置传感器。

14.根据权利要求12所述的检测系统，其特征在于，所述系统还包括带有标记的漫反射板，所述成像探测器通过所述漫反射板分时检测正入射光路和斜入射光路所对应的光...

【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，吴昌力，
申请(专利权)人：聚时科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：