蚀刻机构和蚀刻机构的操作方法技术

技术编号:42934937 阅读:28 留言:0更新日期:2024-10-11 15:56
本发明专利技术公开一种蚀刻机构及其操作方法。蚀刻机构包括蚀刻单元、第一储液单元、过滤单元、第一管路以及第二管路。第一储液单元连接于蚀刻单元,第一管路连接第一储液单元及过滤单元且第一管路邻近过滤单元设置有第一阀件。第一储液单元中的固体物占比不小于第一预设占比值时,第一储液单元储存有第一液体并将第一液体提供至蚀刻单元,蚀刻单元对板状元件进行蚀刻薄化,第一阀件打开,第二阀件关闭,以使第一储液单元经由第一管路连通过滤单元,第一储液单元底部的部分第一液体经由第一管路流向过滤单元;于第二模式下,第一储液单元储存有第二液体,第一阀件关闭,第二阀件打开,以使第二液体流经第一管路及第二管路。本发明专利技术可确保蚀刻效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种薄化行业,尤其涉及一种蚀刻机构和蚀刻机构的操作方法


技术介绍

1、随着科技的发展,显示器件的需求量与日俱增,并且消费者对各种显示器件轻薄化要求越来越高,以液晶面板为例,液晶面板减薄企业对减薄设备的需求也越来越多。因此,液晶面板减薄设备具有十分广阔市场。目前,薄化蚀刻机是玻璃基板减薄的必要设备之一,薄化蚀刻机所使用的蚀刻液会循环使用,亦即经由薄化蚀刻后的蚀刻液会回到储液槽,如此,使得储液槽中蚀刻玻璃时所生成的氟硅酸、氟硅酸盐等固体物的浓度越来越高,亦会影响所流经的管路,需要及时处理,以避免对薄化蚀刻机的蚀刻效果造成影响。


技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种蚀刻机构和蚀刻机构的操作方法,以解决上述问题。

2、为了达到上述目的,本专利技术提供一种蚀刻机构,用于对板状元件进行薄化,该蚀刻机构包括蚀刻单元、第一储液单元、过滤单元、第一管路以及第二管路。该第一储液单元经由一循环管路与该蚀刻单元相互连接;该第一管路连接该第一储液单元及该过滤单元且该第一管路邻近该过滤单元设置有第一本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种蚀刻机构,用于对板状元件进行薄化,其特征在于该蚀刻机构包括,

2.根据权利要求1所述的蚀刻机构,其特征在于,该蚀刻单元设置有第一感测器,当该第一感测器的第一感测值不小于第一预设值时,则判定该第一储液单元中的固体物占比不小于该第一预设占比值,该蚀刻机构进入该第一模式。

3.根据权利要求2所述的蚀刻机构,其特征在于,该第一感测器为计数器或计时器。

4.根据权利要求1所述的蚀刻机构,其特征在于,该第一管路设置有第二感测器,于该第一模式下,当该第二感测器的第二感测值不大于第二预设值时,则判定该第一管路的流量小于预设流量,则该蚀刻机构进入该第二模式。...

【技术特征摘要】

1.一种蚀刻机构,用于对板状元件进行薄化,其特征在于该蚀刻机构包括,

2.根据权利要求1所述的蚀刻机构,其特征在于,该蚀刻单元设置有第一感测器,当该第一感测器的第一感测值不小于第一预设值时,则判定该第一储液单元中的固体物占比不小于该第一预设占比值,该蚀刻机构进入该第一模式。

3.根据权利要求2所述的蚀刻机构,其特征在于,该第一感测器为计数器或计时器。

4.根据权利要求1所述的蚀刻机构,其特征在于,该第一管路设置有第二感测器,于该第一模式下,当该第二感测器的第二感测值不大于第二预设值时,则判定该第一管路的流量小于预设流量,则该蚀刻机构进入该第二模式。

5.根据权利要求4所述的蚀刻机构,其特征在于,该第二感测器为流量计。

6.根据权利要求1所述的蚀刻机构,其特征在于,该过滤单元包含中转部及过滤部,该中转部具有液位感测器,于该第一模式下,该第一储液单元底部的部分第一液体不断经由该第一管路流向该中转部,再由该中转部传送至该过滤部,当该液位感测器的第三感测值不大于第三预...

【专利技术属性】
技术研发人员:夏凡星杨东李鸿李翔宇蔡照辉
申请(专利权)人:友达光电昆山有限公司
类型:发明
国别省市:

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