【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及表面粗糙度，具体涉及一种用于测量深小孔粗糙度的设备及其测量方法。
技术介绍
1、粗糙度测量技术在制造业中扮演着至关重要的角色。表面形貌，特别是粗糙度，是影响产品质量的重要因素之一。对于深小孔这类难以直接观察的部件，准确地测量其粗糙度对于评估其性能和使用寿命具有重要意义。
2、现有技术中的一种表面形貌测量方法，通过逐点扫描测量方式，利用轮廓仪能够满足超精密高效加工的需求，同时，有些使用整场扫描方式实现表面形貌快速测量光学表面的方法，如激光面干涉法、反射光栅法等。但以上方法的测量数据采样率相对偏低，仅能获取表面形貌的基本形状(表面形貌的低频信息)。
3、公开号为cn117346682a的中国专利技术专利申请，具体公开了一种利用虚拟参考面的白光干涉测量装置及方法，该装置包括：用于产生测量所需照明的白光照明单元，用于构造虚拟参考面并产生参考光的参考光路，用于获取带有待测物体表面形貌信息测试光的测试光路，用于对虚拟参考面以及待测物体表面成像形成白光干涉条纹的成像光路；
4、该技术方案虽然能够实现物...
【技术保护点】
1.一种用于测量深小孔粗糙度的设备，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的一种用于测量深小孔粗糙度的设备，其特征在于：所述半透半反射镜(3)与标准板(6)之间还设有增透板(4)。
3.如权利要求1所述的一种用于测量深小孔粗糙度的设备，其特征在于：所述线光源(1)与半透半反射镜(3)的中心等高设置，所述标准板(6)、半透半反射镜(3)和干涉显示平台(5)的在竖向上相对设置，所述半透半反射镜(3)的反射面位于待测产品(2)的一侧。
4.如权利要求1所述的一种用于测量深小孔粗糙度的设备，其特征在于：还包括框体(7)，所述框体(7)包括...
【技术特征摘要】
1.一种用于测量深小孔粗糙度的设备，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的一种用于测量深小孔粗糙度的设备，其特征在于：所述半透半反射镜(3)与标准板(6)之间还设有增透板(4)。
3.如权利要求1所述的一种用于测量深小孔粗糙度的设备，其特征在于：所述线光源(1)与半透半反射镜(3)的中心等高设置，所述标准板(6)、半透半反射镜(3)和干涉显示平台(5)的在竖向上相对设置，所述半透半反射镜(3)的反射面位于待测产品(2)的一侧。
4.如权利要求1所述的一种用于测量深小孔粗糙度的设备，其特征在于：还包括框体(7)，所述框体(7)包括遮光部分(7.1)，以及用于供光线出射的敞口部分(7.2)，所述线光源(1)、参考组件和测试组件均设置在遮光部分(7.1)内，且所述工装板(8)布置在框体(7)并位于敞口部分(7.2)外侧。
5.如权利要求1所述的一种用于测量深小孔粗糙度的设备，其特征在于：所述干涉显示平台(5)、工装板(8)和标准板(6)的其中一个或多个的高度...
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