一种上釉均匀的陶瓷上釉装置制造方法及图纸

技术编号:42876331 阅读:20 留言:0更新日期:2024-09-30 15:01
本技术提供一种上釉均匀的陶瓷上釉装置,涉及陶瓷加工技术领域,本技术包括底座,所述底座的顶部固定连接有矩形框,所述底座的内部设置有第一电机,所述第一电机的输出端固定连接有转动杆,所述转动杆远离第一电机的输出端的一端固定连接有操作盘,所述操作盘的顶部设置有限位装置,所述底座的顶部固定连接有储釉箱,所述储釉箱的一侧设置有搅拌装置,使用限位装置的时候,控制限位杆在滑槽的内部滑动,进而使得限位杆向靠近操作盘圆心的方向移动,进而通过限位杆把需要进行上釉的毛坯限制在操作盘的中间,使得操作盘转动的时候可以带动毛坯沿着其的中轴转动,进而在一定程度上使得烧制好的毛坯可以均匀上釉。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及陶瓷加工,尤其涉及一种上釉均匀的陶瓷上釉装置


技术介绍

1、上釉装置是用于在陶瓷加工的时候用于给陶瓷上釉的装置,制作陶瓷的时候,首先把使用特定的泥巴制作成毛坯,然后对毛坯进行烧制,烧制之后的毛坯放置在操作盘的表面,启动第一电机,通过第一电机带动操作盘转动,进而通过加压泵把釉液抽到集合管的内部,进而通过喷头喷到毛坯的表面,进而很好地对烧制好的毛坯进行上釉,上釉完成之后再次进行烧制,进而可以很好地完成陶瓷的制作。

2、专利技术人在日常工作中发现陶瓷加工仍至少存在以下问题:在给烧制好的毛坯进行上釉的时候,是直接把毛坯放置在操作盘的顶部,然后通过转动操作盘来使得喷头喷出的釉液能够喷到烧制好的毛坯的表面,但是在操作盘转动的过程中,不能很好地保证烧制好的毛坯一直在操作盘的中间,进而可能会导致毛坯不是沿着中轴转动,进而会导致烧制好的毛坯上釉不均匀。


技术实现思路

1、本技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种上釉均匀的陶瓷上釉装置。

2、为了实现上述目的,本技术采用了如下技本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种上釉均匀的陶瓷上釉装置,包括底座(1),其特征在于:所述底座(1)的顶部固定连接有矩形框(14),所述底座(1)的内部设置有第一电机(2),所述第一电机(2)的输出端固定连接有转动杆(3),所述转动杆(3)远离第一电机(2)的输出端的一端固定连接有操作盘(4),所述操作盘(4)的顶部设置有限位装置(5),所述底座(1)的顶部固定连接有储釉箱(6),所述储釉箱(6)的一侧设置有搅拌装置(8),所述储釉箱(6)的顶部套设有连接盖(7),所述储釉箱(6)的一侧插设有出液管(9),所述出液管(9)远离储釉箱(6)的一端设置有加压泵(10),所述加压泵(10)的一侧设置有连接管(11),所...

【技术特征摘要】

1.一种上釉均匀的陶瓷上釉装置,包括底座(1),其特征在于:所述底座(1)的顶部固定连接有矩形框(14),所述底座(1)的内部设置有第一电机(2),所述第一电机(2)的输出端固定连接有转动杆(3),所述转动杆(3)远离第一电机(2)的输出端的一端固定连接有操作盘(4),所述操作盘(4)的顶部设置有限位装置(5),所述底座(1)的顶部固定连接有储釉箱(6),所述储釉箱(6)的一侧设置有搅拌装置(8),所述储釉箱(6)的顶部套设有连接盖(7),所述储釉箱(6)的一侧插设有出液管(9),所述出液管(9)远离储釉箱(6)的一端设置有加压泵(10),所述加压泵(10)的一侧设置有连接管(11),所述连接管(11)贯穿插设在矩形框(14)的一侧,所述连接管(11)远离加压泵(10)的一端固定连接有集合管(12),所述集合管(12)的一侧均匀设置有喷头(13),所述限位装置(5)包括限位杆(502),所述操作盘(4)的表面均匀开设有滑槽(501),所述滑槽(501)的内壁与限位杆(502)滑动连接。

2.根据权利要求1所述的上釉均匀的陶瓷上釉装置,其特征在于:所述操作盘(4)的底部固定连接有矩形块(504),所述矩形块(504)的一侧固定连接有圆杆(505),所述圆杆(505)远离矩形块(504)的一端和转动杆(3)的一侧固定连接,所述圆杆(505)滑动贯穿...

【专利技术属性】
技术研发人员:徐铭海徐乐田冯静
申请(专利权)人:临沂晶石陶瓷有限公司
类型:新型
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1