一种光罩的传输装置及半导体制造设备制造方法及图纸

技术编号:42874893 阅读:23 留言:0更新日期:2024-09-30 15:01
本技术及半导体技术领域,特别是涉及一种光罩的传输装置及半导体制造设备,所述光罩的传输装置包括:转运轨道,布设于光罩的存放位置到上料位置的顶部;抓取组件,滑动连接于所述转运轨道上;清洁室,设置于所述存放位置和所述上料位置之间;其中,所述抓取组件从所述存放位置抓取所述光罩,并移动至所述清洁室内进行清洁后,将清洁后的所述光罩移动至所述上料位置。本技术结构简单、可靠性高,可将光罩自动化清洁后转运至上料位置,本技术提高了半导体的刻蚀效率,同时降低了光罩的损伤率和降低了生产成本。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体,尤其涉及一种光罩的传输装置及半导体制造设备


技术介绍

1、在半导体制造过程中,光罩扮演着至关重要的角色。光罩是印刻有特定图案的特殊透光材料,光线透过光罩将光罩上的图形印刷到玻璃上。光罩曝光是极其精密的过程,要求生产洁净度极高。光罩表面细微的脏污或杂质都将影响光的透过率,从而造成线宽或膜厚的变化形成瑕疵或mura,影响批量产品品质。

2、现有技术中,光罩在储存及搬运中使用的装载容器是光罩盒,通常光罩盒是密封的,可以保护光罩免受撞击损伤或微尘污染。然而,使用光罩时,需要人工进行搬放、及后续的人工清洁,在上述过程中,光罩极易出现污染和损伤。因此,存在待改进之处。


技术实现思路

1、本技术提供一种光罩的传输装置及半导体制造设备,以解决在光罩搬运过程中,易受到污染和损伤的技术问题。

2、本技术提供的一种光罩的传输装置,包括:

3、转运轨道,布设于光罩的存放位置到上料位置的顶部;

4、抓取组件,滑动连接于所述转运轨道上;

5、清洁室,设置于所本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光罩的传输装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的光罩的传输装置,其特征在于,所述抓取组件包括:

3.根据权利要求2所述的光罩的传输装置,其特征在于,所述吸附机构的底面设有多个气吸孔,每个所述气吸孔吸附所述光罩的顶面。

4.根据权利要求3所述的光罩的传输装置,其特征在于,所述吸附机构还包括:

5.根据权利要求2所述的光罩的传输装置,其特征在于,所述清洁机构的数量为两个,两个所述清洁机构相对设置于所述吸附机构的两侧。

6.根据权利要求5所述的光罩的传输装置,其特征在于,所述清洁机构包括:>

7.根据权利...

【技术特征摘要】

1.一种光罩的传输装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的光罩的传输装置,其特征在于,所述抓取组件包括:

3.根据权利要求2所述的光罩的传输装置,其特征在于,所述吸附机构的底面设有多个气吸孔,每个所述气吸孔吸附所述光罩的顶面。

4.根据权利要求3所述的光罩的传输装置,其特征在于,所述吸附机构还包括:

5.根据权利要求2所述的光罩的传输装置,其特征在于,所述清洁机构的数量为两个,两个所述清洁机构相对设置于所述吸附机构的两侧。

6.根据权利要求5所述的光罩的传输...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈卫军欧阳增图刘凌海
申请(专利权)人:深圳市辰中科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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