【技术实现步骤摘要】
本申请涉及量子计算机，尤其涉及一种获取目标工作性质超导谐振腔的方法及量子处理器。
技术介绍
1、如图1所示，量子计算机系统包括量子处理器(又叫量子芯片)、量子计算机测控系统、量子计算机环境支持系统(又叫稀释制冷机)、搭载到经典计算机的量子计算机操作系统，其中，稀释制冷机内通过设置冷盘提供室温到最低温的不同温区空间，各不同温区空间通过冷盘隔离，量子处理器位于稀释制冷机的最低温区。
2、量子芯片相关的量子元件均需要工作在低温下，这些量子元件需经过设计阶段再投入制备，完成制备阶段进行封装后可进行实际低温测试阶段，进而得到工作性能参数，然而，测试发现这些量子元件的工作性能参数与设计制备工艺存在较大关系，若测试得到的量子元件的工作性能不满足需求，重新制作量子芯片，不仅增加成本，且仍会存在制备出的量子不满足需求，同时制作周期也较长。量子元件的低温工作性能测试也需要占用大量的珍贵的稀释制冷机资源。超导谐振腔作为量子芯片上量子比特的关键组成部分，同样面临该问题。
3、基于此，本申请提供了一种获取目标工作性质超导谐振腔的方法及量子
【技术保护点】
1.一种获取目标工作性质超导谐振腔的方法，其特征在于，所述方法，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述操作变量是对具有目标尺寸限定的产品形貌的超导谐振腔制备工艺中的退火操作。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述退火操作包括激光退火操作或者其他热源退火操作之一或者组合。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，当所述退火操作包括激光退火操作和其他热源退火操作的组合时，基于操作变量的制备工艺制备完成的超导谐振腔包括：先采用激光退火操作对超导谐振腔进行退火操作，在采用其他热源退火操作对超导谐振腔进行退火操作。
5.根...
【技术特征摘要】
1.一种获取目标工作性质超导谐振腔的方法，其特征在于，所述方法，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述操作变量是对具有目标尺寸限定的产品形貌的超导谐振腔制备工艺中的退火操作。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述退火操作包括激光退火操作或者其他热源退火操作之一或者组合。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，当所述退火操作包括激光退火操作和其他热源退火操作的组合时，基于操作变量的制备工艺制备完成的超导谐振腔包括：先采用激光退火操作对超导谐振腔进行退火操作，在采用其他热源退火操作对超导谐振腔进行退火操作。
5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述退火操作影响超导谐振腔的产品形貌的表面粗糙度，所述超导谐振腔的工作性能是指超导谐振腔的品质因数。
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述第一变化关系是指超导谐振腔的产品形貌的表面粗糙度随退火时间增加而降低的关系；所述第二变化关系是指超导谐振腔的因数随超导谐振腔的产品形貌的表面粗糙度减小而增大的关系。
7.根据...
【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，请求不公布姓名，请求不公布姓名，贾志龙，
申请(专利权)人：本源量子计算科技合肥股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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