【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学测量，具体是一种双电光晶体调制自混合测振系统及方法。
技术介绍
1、当前以迈克尔逊基本结构干涉仪为代表激光干涉仪产品已十分成熟，但它们对测量物体表面反射率要求非常高，只有反射光足够强，才能观察到清晰的干涉条纹。而现实中大部分测量目标表面往往比较粗糙，无法达到干涉标准。
2、激光自混合测量技术是近年来新兴的一种基于新原理的光学测量技术，它利用目标靶面反馈回谐振腔内的光，对谐振腔内激光的干扰调制作用进行测量，能够精确测量表面粗糙的非配合物体的运动情况，环境适用性较强，同时，自混合测量还具有高精度、高灵敏度等优良特性，可用于太赫兹成像、生物样品检测、故障检测等场景，拥有广阔的应用前景。
3、由于目标振动信息与激光自混合功率信号的相位相关，测量精度与激光相位噪声的大小具有高相关性，若激光相位噪声较大，则解调重构得到的振动信号将出现形变、漂移，导致测量精度下降。而激光相位噪声为无规则的随机噪声，无法使用滤波手段去除。
技术实现思路
1、针对上述现有技术中相位...
【技术保护点】
1.一种双电光晶体调制自混合测振系统，其特征在于，包括激光器、第一分光镜、第一电光晶体、第二电光晶体与光电探测器；
2.根据权利要求1所述的双电光晶体调制自混合测振系统，其特征在于，还包括第二分光镜，所述第二分光镜位于所述第一电光晶体与所述被测目标表面之间；
3.根据权利要求2所述的双电光晶体调制自混合测振系统，其特征在于，还包括聚焦透镜，所述聚焦透镜位于所述第一电光晶体与所述第二分光镜之间，以会聚激光光斑。
4.根据权利要求1所述的双电光晶体调制自混合测振系统，其特征在于，还包括衰减片，所述衰减片位于所述激光器与所述第一分光镜之间...
【技术特征摘要】
1.一种双电光晶体调制自混合测振系统，其特征在于，包括激光器、第一分光镜、第一电光晶体、第二电光晶体与光电探测器；
2.根据权利要求1所述的双电光晶体调制自混合测振系统，其特征在于，还包括第二分光镜，所述第二分光镜位于所述第一电光晶体与所述被测目标表面之间；
3.根据权利要求2所述的双电光晶体调制自混合测振系统，其特征在于，还包括聚焦透镜，所述聚焦透镜位于所述第一电光晶体与所述第二分光镜之间，以会聚激光光斑。
4.根据权利要求1所述的双电光晶体调制自混合测振系统，其特征在于，还包括衰减片，所述衰减片位于所述激光器与所述第一分光镜之间，以控制反馈光强弱。
5.根据权利要求1至4任一项所述的双电光晶体调制自混合测振系统，其特征在于，所述第一分光镜为1∶1分光镜。...
【专利技术属性】
技术研发人员：周健，王雨宁，聂晓明，冯艺聪，
申请(专利权)人：中国人民解放军国防科技大学，
类型：发明
国别省市：
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