疏水端原料、表面活性剂、制备方法及应用技术

本发明专利技术公开了一种疏水端原料、表面活性剂、制备方法及应用，疏水端原料包括以下结构通式的化合物：其中，Z<subgt;1</subgt;为H或OH，Z<subgt;2</subgt;为H、CH<subgt;2</subgt;OH或CH<subgt;2</subgt;COOH，且Z<subgt;1</subgt;和Z<subgt;2</subgt;不能同时为H；R<subgt;1</subgt;选自CH(CH<subgt;3</subgt;)<subgt;2</subgt;、CH<subgt;2</subgt;C(CH<subgt;3</subgt;)<subgt;3</subgt;、C1～C20直链烷基；R<subgt;2</subgt;选自CH<subgt;2</subgt;[(R<subgt;3</subgt;)<subgt;k</subgt;H]、CH<subgt;2</subgt;C(CH<subgt;2</subgt;R<subgt;3</subgt;H)(CH<subgt;3</subgt;)CH<subgt;2</subgt;[(R<subgt;3</subgt;)<subgt;k</subgt;H]。本发明专利技术提供的疏水端原料的疏水基分子构筑途径多，可采用环氧化反应、水合反应、氢甲酰化反应等；采用原子经济型工艺，整体工艺原子利用率可达100％；提供的树突型支链非离子表面活性剂具有优异的性能，表面张力低，消泡快，润湿渗透性能优异，优于直链非离子表面活性剂AEO的表面活性，能够广泛应用于工业清洗。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于化工，具体涉及一种疏水端原料、表面活性剂、制备方法及应用。

技术介绍

1、表面活性剂是一类具有显著降低液体表面张力能力的化合物，其分子结构通常由亲水头和疏水尾组成。根据亲水头所带电荷的不同，表面活性剂可分为阴离子、阳离子、两性离子和非离子四大类。这些表面活性剂因其独特的物理化学性质，在多个工业领域中发挥着关键作用。

2、尽管表面活性剂在工业应用中已取得显著发展，但现有的表面活性剂合成路径较为单一。这限制了表面活性剂种类的多样性和性能的优化。当前的合成方法通常依赖于传统的化学合成技术，这些技术往往存在成本高、反应条件苛刻、副产物多。

3、因此，针对上述技术问题，有必要提供一种新的解决方案。

技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种疏水端原料、表面活性剂、制备方法及应用，该疏水端原料的疏水基分子构筑途径多，可以通过多种合成途径来制备。

2、为实现上述目的，本专利技术提供的技术方案如下：

3、第一方面，本专利技术提供了一种表面活性剂疏水端原料，其包本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种表面活性剂疏水端原料，其特征在于，包括以下结构通式的化合物：

2.一种树突型支链非离子表面活性剂，其特征在于，包括以下结构通式的化合物：

3.一种树突型支链非离子表面活性剂，其特征在于，包括以下结构通式的化合物：

4.一种如权利要求1所述的表面活性剂疏水端原料的制备方法，其特征在于，包括：

5.根据权利要求4所述的表面活性剂疏水端原料的制备方法，其特征在于，所述第一催化剂包括甲酸、焦磷酸镁、磷镁石、磷钨酸、硅钨酸、TS-1和水滑石、蒙脱石中的一种或多种；和/或

6.根据权利要求4所述的表面活性剂疏水端原料的制备方法，其特...

【技术特征摘要】

1.一种表面活性剂疏水端原料，其特征在于，包括以下结构通式的化合物：

2.一种树突型支链非离子表面活性剂，其特征在于，包括以下结构通式的化合物：

3.一种树突型支链非离子表面活性剂，其特征在于，包括以下结构通式的化合物：

4.一种如权利要求1所述的表面活性剂疏水端原料的制备方法，其特征在于，包括：

5.根据权利要求4所述的表面活性剂疏水端原料的制备方法，其特征在于，所述第一催化剂包括甲酸、焦磷酸镁、磷镁石、磷钨酸、硅钨酸、ts-1和水滑石、蒙脱石中的一种或多种；和/或

6.根据权利要求4所述的表面活性剂疏水端原料的制备方法，其特征在于，所述环氧化反应的反应温...

【专利技术属性】
技术研发人员：董晋湘，李旭，毕泽向，陈庚，何耀，武映辰，丁慧，
申请(专利权)人：太原理工大学，
类型：发明
国别省市：