一种TSV硅通孔缺陷检测仪器及其分析管理方法技术

技术编号:42833036 阅读:37 留言:0更新日期:2024-09-24 21:06
本发明专利技术涉及硅通孔检测技术领域,尤其为一种TSV硅通孔缺陷检测仪器及其分析管理方法,包括检测装置,检测装置设置于X光机主体的内部,检测装置包括有安装座,安装座的底部设置有数量若干的X射线管,检测装置的顶部设置有步进电机,步进电机的输出端设置有伸缩杆,伸缩杆的底端与安装座的顶部固定连接,本发明专利技术中,通过控制安装板旋转和多个探测器的设计,能够实现对TSV通孔的多角度、多次检测,确保了即使探测器性能不稳定或发生损坏,也能通过不同探测器对同一通孔进行交叉验证,从而显著提高检测的准确性。同时也能及时发现探测器损坏的情况,通过全面的检测方式减少了误检和漏检的可能性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及硅通孔检测,具体为一种tsv硅通孔缺陷检测仪器及其分析管理方法。


技术介绍

1、硅通孔技术是3d集成电路中实现三维立体互连的关键技术。在芯片键合之前,检测出tsv(through silicon via,硅通孔)存在的开路或短路缺陷,可以尽早发现错误,挑出不良芯片,有效的降低芯片生产成本;在键合之后进行检测,可以检测键合工艺过程中可能出现的tsv缺陷,同时也可以对键合工艺进行检测,进一步提高出厂产品的良品率。

2、传统的tsv硅通孔缺陷检测方法主要依赖于x光机进行,x光机利用x射线的穿透性和成像性,能够非破坏性地检测材料内部的结构和缺陷。然而,传统的x光机检测方法通常只采用单一的探测头进行扫描,这种方法在探测头性能不稳定或损坏时,可能导致检测结果的不准确,甚至遗漏重要缺陷,此外,当探测头损坏时,传统的x光机检测仪器通常需要停机更换探测头,这不仅影响了设备的持续运行能力,还增加了额外的维护成本和停机时间。


技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种tsv硅通孔缺陷检测仪器及其分析管本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种TSV硅通孔缺陷检测仪器,其特征在于,

2.根据权利要求1所述的一种TSV硅通孔缺陷检测仪器,其特征在于:所述连接杆(271)的外侧设置有限制环(273),所述探测器(26)的顶部设置有锁定环(262),所述限制环(273)的外沿与锁定环(262)的内壁相互啮合,所述锁定环(262)的底部设置有弹簧(263),所述安装座(21)的顶部位于探测器(26)的正上方对应设置有压环(29),所述压环(29)位于连动槽(213)的内壁中活动连接,且压环(29)的底部与锁定环(262)的顶部相接触。

3.根据权利要求1所述的一种TSV硅通孔缺陷检测仪器,其特征在于:所...

【技术特征摘要】

1.一种tsv硅通孔缺陷检测仪器,其特征在于,

2.根据权利要求1所述的一种tsv硅通孔缺陷检测仪器,其特征在于:所述连接杆(271)的外侧设置有限制环(273),所述探测器(26)的顶部设置有锁定环(262),所述限制环(273)的外沿与锁定环(262)的内壁相互啮合,所述锁定环(262)的底部设置有弹簧(263),所述安装座(21)的顶部位于探测器(26)的正上方对应设置有压环(29),所述压环(29)位于连动槽(213)的内壁中活动连接,且压环(29)的底部与锁定环(262)的顶部相接触。

3.根据权利要求1所述的一种tsv硅通孔缺陷检测仪器,其特征在于:所述安装座(21)的两侧设置有红外传感器(28),所述红外传感器(28)用于确定待检测产品在传送带(3)上的位置,其中当待检测产品输送至安装座(21)正下方后,传送带(3)停止传送,通过安装座(21)上的探测头对产品进行检测。

4.根据权利要求1所述的一种tsv硅通孔缺陷检测仪器,其特征在于:所述安装座(21)的顶部位于步进电机(22)的两侧设置有气缸(24),所述气缸(24)用于控制安装座(21)的升降。

5.根据权利要求1所述的一种tsv硅通孔缺陷检测仪器,其特征在于:所述伸缩杆(23)包括与固定杆(231)以及套接于固定杆(231)两端的套杆(232),所述固定杆(231)的两侧设置有滑条,所述套杆(232)的内壁设置有相互对应的滑槽,...

【专利技术属性】
技术研发人员:姚政鹏
申请(专利权)人:武汉昕微电子科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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