一种用于电容器电极材料的掺杂锡多孔氧化钴及生产方法技术

技术编号:42744006 阅读:28 留言:0更新日期:2024-09-18 13:37
本发明专利技术公开一种用于电容器电极材料的掺杂锡多孔氧化钴及生产方法,是将少量的锡掺杂在钴‑MOF的晶格中,通过高温处理,得到元素锡掺杂的多孔氧化钴材料,利用多种元素之间的协同作用提高导电性。元素锡的掺杂可以改变材料微观结构,局部形成异质结结构以及承接了MOF结构的中空多面体形态,缩短电子转移路径,提升反应速率,引入更多的结构缺陷,从而增加电解质的扩散速率,比容量、阻抗、能量密度值等均表现良好,循环稳定性高,为法拉第反应中消耗的电子提供能量,有效地提高了电化学性能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种电容器电极材料及生产方法,尤其是一种用于电容器电极材料的掺杂锡多孔氧化钴及生产方法


技术介绍

1、电极材料的微观结构和组成决定了电荷存储能力和电荷转移速率。过渡金属氧化物是最常见的一种电极材料,近年来人们经常使用复合或者掺杂的方式将两种过渡金属相结合,金属间的相互作用也会在一定程度上为电荷的运输和存储提供活性位点,从而达到改善单一过渡金属氧化物电化学性能的目的。chen等合成束状cuco2o4在1 ag-1下的比容量为303.22 c g-1,组成超电器件后比容量达到152.25 c g-1。xu等将铁掺杂到氧化钴结构中,比容量达到461.5 c g-1。

2、孔隙结构可以为电荷传输提供通道,因此人们也在利用构筑壳层结构、引入碳材料、利用疏松结构基底等方式提高材料高孔隙率来达到提高电化学性能的目的,但大多合成路径复杂,成本较高。金属有机框架(mof)是一类多孔的晶体材料,由金属离子/团簇和有机桥配体在空间中延伸配位而成。其金属离子位置和结构可控、孔隙率大、比表面积高,可以通过改变无机部分和有机部分的组合或调整反应条件从而设计本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于电容器电极材料的掺杂锡多孔氧化钴,其特征在于:在钴-MOF结构中掺杂有金属锡,所述钴离子与锡离子的摩尔比为70-90:1。

2.一种如权利要求1所述用于电容器电极材料的掺杂锡多孔氧化钴的生产方法,其特征在于按照如下步骤进行:

3.根据权利要求2所述用于电容器电极材料的掺杂锡多孔氧化钴的生产方法,其特征在于按照如下步骤进行:

4. 根据权利要求3所述用于电容器电极材料的掺杂锡多孔氧化钴的生产方法,其特征在于所述步骤6是将粉末均匀平铺放入瓷舟中,平铺的厚度不超过1 mm,将瓷舟放于恒温管式炉石英管中央进行焙烧;温度设置如下:从室温开始,以每分钟...

【技术特征摘要】

1.一种用于电容器电极材料的掺杂锡多孔氧化钴,其特征在于:在钴-mof结构中掺杂有金属锡,所述钴离子与锡离子的摩尔比为70-90:1。

2.一种如权利要求1所述用于电容器电极材料的掺杂锡多孔氧化钴的生产方法,其特征在于按照如下步骤进行:

3.根据权利要求2所述用于电容器电极材料的掺杂锡多孔氧化钴的生产方法,其特征在于按照如下步骤进行:...

【专利技术属性】
技术研发人员:朱江王文文李一锋王金歌孙露洋何兴君崔琳曼
申请(专利权)人:辽宁师范大学
类型:发明
国别省市:

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