【技术实现步骤摘要】
本申请涉及光学仪器，特别涉及一种光学器件和半导体设备。
技术介绍
1、暴露在紫外波段（10nm-400nm）光照条件下的光学器件，在具备超高能量的紫外光子作用下，表面污染物与光学器件的内源污染物、空气中的污染物和其他杂质等相互反应，在光斑处形成沉积，即发生光学器件光污染现象。光斑处的沉积物会吸收紫外光，导致光学器件的透过率或反射率大幅度降低，致使需光端光能不足，设备性能指标不达标。并且，光斑处在高能激光的长期作用下，温度上升，会产生光损伤，降低光学器件的耐用性。
2、波片可用于组成上述光学器件，通常采用胶粘的方式固定于光学器件内，例如以两个石英片和隔圈之间采用胶粘的方式连接固定形成的空气隙波片，再通过胶粘的方式将空气隙波片的侧面和套筒连接固定。然而，用于固定上述石英片与隔圈、以及固定波片与套筒的胶粘物质会成为光学器件内部的污染源。具体的，在紫外光的照射下，胶粘物质会发生化学键断裂，从而和其他杂质相互反应，导致了大量污染物的生成，在波片的内层发生严重的光污染。
技术实现思路
1、...
【技术保护点】
1.一种光学器件，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光学器件，其特征在于，所述第二限位结构包括导向槽，所述第一限位结构包括与所述导向槽适配的凸起，所述第一限位结构的凸起容置于所述第二限位结构的导向槽内；
3.根据权利要求2所述的光学器件，其特征在于，所述第二限位结构的数量为至少两个，所述第一限位结构的数量为至少两个，至少两个所述第一限位结构沿所述导向圈的周向间隔设置，所述第一限位结构和所述第二限位结构一一对应设置。
4.根据权利要求3所述的光学器件，其特征在于，至少两个所述第一限位结构环绕所述导向圈的外壁均匀间隔设置。p>
5.根据权...
【技术特征摘要】
1.一种光学器件，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光学器件，其特征在于，所述第二限位结构包括导向槽，所述第一限位结构包括与所述导向槽适配的凸起，所述第一限位结构的凸起容置于所述第二限位结构的导向槽内；
3.根据权利要求2所述的光学器件，其特征在于，所述第二限位结构的数量为至少两个，所述第一限位结构的数量为至少两个，至少两个所述第一限位结构沿所述导向圈的周向间隔设置，所述第一限位结构和所述第二限位结构一一对应设置。
4.根据权利要求3所述的光学器件，其特征在于，至少两个所述第一限位结构环绕所述导向圈的外壁均匀间隔设置。
5.根据权利要求1-4任一项所述的光学器件，其特征在于，所述套筒设有固定孔，所述固定孔贯穿所述套筒的侧壁，所述固定孔用于使固定件穿过以和所述压圈固定连接。
6.根据权利要求5所述的光学器件，其特征在于，所述固定孔的数量为至少两个，至少两个所述固定孔沿所述套筒的周向间隔设置。
7.根据权利要求6所述的光学器件，其特征在于，至少两个所述固定孔环绕所述套筒的外壁均匀间隔设置。
8.根据权利要求1-4任一项所述的光学器件，其特征在于，所述套筒呈圆柱筒状，所述套筒设有第一螺纹结构，所述压圈设有第二螺纹结构，所述第一螺纹结构和所述第二螺纹结构螺纹连接。
9.根据权利要求1-4任一项所述的光学器件，其特征在于，所述波...
【专利技术属性】
技术研发人员：薛旭峰，石进峰，田佳丁，徐广州，
申请(专利权)人：深圳市新凯来工业机器有限公司，
类型：发明
国别省市：
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