一种通用空间双定位转动机构制造技术

本发明专利技术涉及一种通用空间双定位转动机构，包括：用作机构底座的大转台，承载转动机构的其它组成部分并带动被承载物进行转动；大转台上设有入射射线载台，承载入射射线的发射装置；入射射线载台上设有小转台，作为承载装置并带动其上的被承载物进行转动；小转台上设有平面架载台，承载平面架，平面架可绕平面架载台的轴转动；平面架上装有平面载体，平面载体可绕其中心在平面架内转动；平面载体上装有平面物。本发明专利技术以上四个转动机构相互独立，均能实现相应平面内或绕轴３６０°转动；四个转动结构均依托底座平面转动，没有增加额外转动惯量结构，实现了高转动精度；该转动机构将入射射线与反射射线的发生机构“解放”出来，成为可以固定的机构。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于机械运动领域，涉及一种空间多维转动机构，更具体地，涉及一种实现空间双定位的通用转动机构，可用于科学研究、行业实际应用中所有需要精确实现空间双定位转动的场合。
技术介绍
目前，空间多维转动结构有不少设计，但这些设计都以直观的弓形结构为基础，其不足之处主要有(1)转动结构需要支撑负载的转动惯量，从而影响转动精度。(2)转动结构将双定位的位置都置于多维运动结构中，这样大量的运动会对双定位位置中的负载造成损伤，尤其是当负载是精密的仪器时。 图1中示出了空间多维转动机构中四种角度的变化。 四种角度指(其中入射平面指入射射线Li与轴N形成的平面，反射平面指反射射线Lr与轴N形成的平面，底平面内角度的初始边为轴X，坐标原点即轴心为O) θi——入射射线Li在入射平面内的角度，即入射射线Li与轴N之间的夹角； ——入射射线Li在空间的角度，即入射射线Li在底平面的投影与轴X之间的夹角； θr——反射射线Lr在反射平面内的角度，即反射射线Lr与轴N之间的夹角； ——反射射线Lr在空间的角度，即反射射线Lr在底平面的投影与轴X之间的夹本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种通用空间双定位转动机构，其特征在于，包括：大转台（５），用作所述转动机构的底座，其上承载所述转动机构的其它组成部分并能带动被承载物进行转动；入射射线载台（６），位于大转台（５）上；小转台（７），位于入射射线载台（６）上，作为承载装置并能带动其上的被承载物进行转动；平面架载台（８），位于小转台（７）上，其上承载平面架（１０）；平面架（１０），位于平面架载台（８）上，其上安装有平面载体（９）；平面载体（９），通过销轴安装在平面架（１０）上，用于承载平面物（１１）。

【技术特征摘要】
1.一种通用空间双定位转动机构，其特征在于，包括大转台(5)，用作所述转动机构的底座，其上承载所述转动机构的其它组成部分并能带动被承载物进行转动；入射射线载台(6)，位于大转台(5)上；小转台(7)，位于入射射线载台(6)上，作为承载装置并能带动其上的被承载物进行转动；平面架载台(8)，位于小转台(7)上，其上承载平面架(10)；平面架(10)，位于平面架载台(8)上，其上安装有平面载体(9)；平面载体(9)，通过销轴安装在平面架(10)上，用于承载平面物(11)。2.如权利要求1所述的通用空间双定位转动机构，其特征在于，所述大转台(5)上安...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘子龙，
申请(专利权)人：中国计量科学研究院，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]