一种基于小波变换的高光去除方法技术

技术编号:42704265 阅读:19 留言:0更新日期:2024-09-13 11:58
本发明专利技术提出了一种基于小波变换的高光去除方法,旨在去除含有复杂纹理的单幅图像的高光部分。步骤如下:首先对含有高光信息的图片进行粗提取,随后基于多级小波变换提取高光信息中的高频信息,通过融合策略增强原始图像中的纹理信息,最后再与同级别高光信息差值运算,从而得到高光抑制图像。实验结果表明,本发明专利技术在保留纹理细节的同时有效地去除了大面积的高光,所得的高光信息不包含残留纹理。总体而言,本发明专利技术为解决具有丰富纹理和大面积高光的视觉检测图像的高光抑制问题提供了可行性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及通用光学三维测量领域,尤其涉及用于条纹投影轮廓术所采集的投影图片的高光去除领域。


技术介绍

1、在通用光学三维测量领域,高光去除十分重要,主要体现在以下几个方面:

2、首先,高光去除有助于提高测量精度。当物体表面具有高反光特性时,投影的条纹在这些区域会产生过曝现象,导致相机捕获的图像中这些区域的像素值过高,无法准确反映物体的表面形态。通过去除这些高光区域,我们可以恢复被高光覆盖的纹理和细节信息,使得后续的相位求解和三维重建过程更加准确。

3、其次,高光去除有助于改善图像质量。过曝的高光区域在图像中通常表现为刺眼的亮点,这些亮点不仅会影响图像的美观性,还可能掩盖其他有用的信息。通过高光去除技术,我们可以消除这些亮点,使图像更加清晰、自然,便于后续的处理和分析。

4、最后,高光去除对于三维重建的成功至关重要。在条纹投影轮廓术中,投影的条纹在物体表面形成变形图案,这些变形图案是后续三维重建的基础。如果图像中存在高光区域,那么这些区域的变形图案将无法准确获取,从而影响整个三维重建的精度。因此,通过高光去除技术,我们本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.基于小波变换的高光去除方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的基于小波变换的高光去除方法,其特征在于,步骤S1所述的对含有高光信息的图片进行粗提取的方法为:

3.根据权利要求1所述的基于小波变换的高光去除方法,其特征在于,步骤S2基于多级小波变换提取高光信息中的高频信息的方法为:

4.根据权利要求1所述的基于小波变换的高光去除方法,其特征在于,步骤S3通过融合策略增强原始图像中的纹理信息的方法为;

5.根据权利要求1所述的基于小波变换的高光去除方法,其特征在于,步骤S4与同级别高光信息融合,得到高光抑制图像的方法为,通...

【技术特征摘要】

1.基于小波变换的高光去除方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的基于小波变换的高光去除方法,其特征在于,步骤s1所述的对含有高光信息的图片进行粗提取的方法为:

3.根据权利要求1所述的基于小波变换的高光去除方法,其特征在于,步骤s2基于多级小波变换提取高光信息中的高频信息的方法为...

【专利技术属性】
技术研发人员:孙翔张云鹏罗珍珺王世昭田丽平
申请(专利权)人:华东交通大学
类型:发明
国别省市:

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