【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及通用光学三维测量领域,尤其涉及用于条纹投影轮廓术所采集的投影图片的高光去除领域。
技术介绍
1、在通用光学三维测量领域,高光去除十分重要,主要体现在以下几个方面:
2、首先,高光去除有助于提高测量精度。当物体表面具有高反光特性时,投影的条纹在这些区域会产生过曝现象,导致相机捕获的图像中这些区域的像素值过高,无法准确反映物体的表面形态。通过去除这些高光区域,我们可以恢复被高光覆盖的纹理和细节信息,使得后续的相位求解和三维重建过程更加准确。
3、其次,高光去除有助于改善图像质量。过曝的高光区域在图像中通常表现为刺眼的亮点,这些亮点不仅会影响图像的美观性,还可能掩盖其他有用的信息。通过高光去除技术,我们可以消除这些亮点,使图像更加清晰、自然,便于后续的处理和分析。
4、最后,高光去除对于三维重建的成功至关重要。在条纹投影轮廓术中,投影的条纹在物体表面形成变形图案,这些变形图案是后续三维重建的基础。如果图像中存在高光区域,那么这些区域的变形图案将无法准确获取,从而影响整个三维重建的精度。因此,通
...【技术保护点】
1.基于小波变换的高光去除方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的基于小波变换的高光去除方法,其特征在于,步骤S1所述的对含有高光信息的图片进行粗提取的方法为:
3.根据权利要求1所述的基于小波变换的高光去除方法,其特征在于,步骤S2基于多级小波变换提取高光信息中的高频信息的方法为:
4.根据权利要求1所述的基于小波变换的高光去除方法,其特征在于,步骤S3通过融合策略增强原始图像中的纹理信息的方法为;
5.根据权利要求1所述的基于小波变换的高光去除方法,其特征在于,步骤S4与同级别高光信息融合,得到高光
...【技术特征摘要】
1.基于小波变换的高光去除方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的基于小波变换的高光去除方法,其特征在于,步骤s1所述的对含有高光信息的图片进行粗提取的方法为:
3.根据权利要求1所述的基于小波变换的高光去除方法,其特征在于,步骤s2基于多级小波变换提取高光信息中的高频信息的方法为...
【专利技术属性】
技术研发人员:孙翔,张云鹏,罗珍珺,王世昭,田丽平,
申请(专利权)人:华东交通大学,
类型:发明
国别省市:
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