纹理结构及其制备方法、装饰件、终端技术

技术编号:42694339 阅读:50 留言:0更新日期:2024-09-10 12:44
本申请提供了一种纹理结构及其制备方法、装饰件、终端,涉及装饰技术领域,该纹理结构包括基底和纹理层,纹理层包括多个凸起部。各凸起部设置在基底表面,各凸起部的高度随参考高度而变化,以形成多个纹理槽,其中,参考高度为参考皮纹面相对于基底表面的高度。根据本申请实施例的纹理结构,能够模拟出皮革的细节特征,具有皮纹质感,能代替由皮革材料制成的装饰层,从而大幅降低生产成本。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及装饰,尤其涉及一种纹理结构及其制备方法、装饰件、终端


技术介绍

1、目前,为了提高产品外观的美观性,通常在产品的表面设计出各种装饰层,例如,手机保护壳背面的皮纹图案层。

2、相关技术中,装饰层采用皮革材料通过胶黏等工艺制成,能够呈现真实的皮纹质感,起到美观、装饰的作用,体验感较佳。

3、然而,采用皮革材料加工成装饰层的成本相对较高。


技术实现思路

1、基于此,本申请提供一种纹理结构及其制备方法、装饰件、终端,以解决现有皮纹产品的成本较高的问题。

2、第一方面,本申请提供一种纹理结构,包括基底和纹理层,纹理层包括多个凸起部;

3、各凸起部设置在基底表面,且各凸起部的高度随参考高度而变化,以形成多个纹理槽,其中,参考高度为参考皮纹面相对于基底表面的高度。

4、在一种可能的实现方式中,纹理槽的表面呈高低起伏状。

5、在一种可能的实现方式中,相邻两个凸起部的底侧抵接。

6、在一种可能的实现方式中,各凸起部呈阵列形式排布。<本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种纹理结构,其特征在于,包括基底(100)和纹理层(200),所述纹理层(200)包括多个凸起部(210);

2.根据权利要求1所述的纹理结构,其特征在于,所述纹理槽(220)的表面呈高低起伏状。

3.根据权利要求1所述的纹理结构,其特征在于,相邻两个所述凸起部(210)的底侧抵接。

4.根据权利要求3所述的纹理结构,其特征在于,各所述凸起部(210)呈阵列形式排布。

5.根据权利要求4所述的纹理结构,其特征在于,所述凸起部(210)为锥体,所述锥体的顶部背离所述基底(100)。

6.根据权利要求5所述的纹理结构,其特征在...

【技术特征摘要】

1.一种纹理结构,其特征在于,包括基底(100)和纹理层(200),所述纹理层(200)包括多个凸起部(210);

2.根据权利要求1所述的纹理结构,其特征在于,所述纹理槽(220)的表面呈高低起伏状。

3.根据权利要求1所述的纹理结构,其特征在于,相邻两个所述凸起部(210)的底侧抵接。

4.根据权利要求3所述的纹理结构,其特征在于,各所述凸起部(210)呈阵列形式排布。

5.根据权利要求4所述的纹理结构,其特征在于,所述凸起部(210)为锥体,所述锥体的顶部背离所述基底(100)。

6.根据权利要求5所述的纹理结构,其特征在于,所述锥体的底边长度为0.05mm~0.2mm,所述锥体的高度为0.005mm~0.1mm。

7.根据权利要求1至6任一项所述的纹理结构,其特征在于,所述凸起部(210)依次间隔设置,以形成多个光栅。

8.根据权利要求7所述的纹理结构,其特征在于,各所述光栅中的所述凸起部(210)倾斜设置。

9.根据权利要求8所述的纹理结构,其特征在于,至少两个所述光栅中的所述凸起部(210)倾斜方向不同。

10.根据权利要求8所述的纹理结构,其特征在于,所述基底(100)具有第一延伸方向,同一所述光栅中的所述凸起部(210)相对于所述第一延伸方向的夹角依次增大或依次减小。

11.一种纹理结构的制备方法,其特征在于,用于制备如权利要求1至10任一项所述的纹理结构,包括:

12.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员:段飞飞张奥东袁孙赵丽红祝奇玉
申请(专利权)人:比亚迪股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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