一种D3G分子印迹电化学传感器及其制备方法和应用技术

本发明专利技术提供了一种隐蔽型真菌毒素脱氧雪腐镰刀菌烯醇‑3‑葡萄糖苷(Deoxynivalenol‑3‑Glucoside，D3G)分子印迹电化学传感器及其制备方法和应用。本发明专利技术提供的D3G分子印迹电化学传感器，以D3G为模板分子，邻苯二胺为功能单体，Mn‑CeO<subgt;2</subgt;为基底材料，以H<subgt;2</subgt;O<subgt;2</subgt;为信号指示剂，通过电化学聚合的方法在Mn‑CeO<subgt;2</subgt;修饰的电极表面制备分子印迹聚合薄膜，构建分子印迹电化学传感器，实现对D3G的快速、灵敏、特异性检测。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及真菌毒素检测领域，具体的说涉及一种隐蔽型真菌毒素脱氧雪腐镰刀菌烯醇-3-葡萄糖苷(deoxynivalenol-3-glucoside，d3g)分子印迹电化学传感器及其制备方法和应用。

技术介绍

1、脱氧雪腐镰刀菌烯醇(deoxynivalenol，don)是小麦、玉米等谷物被禾谷镰刀菌(fusarium graminearum)等真菌污染后产生的有毒次级代谢产物。在植物的生长代谢过程中，游离态的don易于糖苷等分子结合，形成一种亲水性更强的隐蔽型真菌毒素脱氧雪腐镰刀菌烯醇-3-葡萄糖苷(deoxynivalenol-3-glucoside，d3g)。d3g往往与don共存，而且d3g进入人和动物体内后,经水解、氧化还原等代谢过程,可释放出有毒的毒素原型分子don,从而产生厌食、腹泻、肠胃炎等症状，甚至休克死亡，给食品安全、人和动物健康造成严重隐患。联合国粮农组织和世界卫生组织下的食品添加剂联合专家委员会(joint fao/whoexpert committeeon food additives,jecfa)已将d3g归类为人类及动物健康潜本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种D3G分子印迹电化学传感器的制备方法，具体包括如下步骤：

2.权利要求1所述方法制备得到的D3G分子印迹电化学传感器MIP/Mn-CeO2/GCE。

3.权利要求2所述D3G分子印迹电化学传感器MIP/Mn-CeO2/GCE的用途，其可用于快速检测D3G。

4.权利要求3所述D3G分子印迹电化学传感器MIP/Mn-CeO2/GCE的用途，用于快速检测D3G的方法如下：

5.根据权利要求4所述的方法，其中SWV扫描电位为0～－0.9V，振幅0.05V。

【技术特征摘要】

1.一种d3g分子印迹电化学传感器的制备方法，具体包括如下步骤：

2.权利要求1所述方法制备得到的d3g分子印迹电化学传感器mip/mn-ceo2/gce。

3.权利要求2所述d3g分子印迹电化学传感器mip/mn-ceo2/gce...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵志辉，聂冬霞，韩铮，郭大凯，黄晴雯，范楷，张志岐，朱雪婷，
申请(专利权)人：上海市农业科学院，
类型：发明
国别省市：