【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及陶瓷产品粗糙度检测技术,更具体地说,它涉及一种刻蚀设备用陶瓷喷嘴的表面粗糙度检测装置及方法。
技术介绍
1、硅的等离子体干法刻蚀是硅片制造中的一项关键工艺技术,主要作用为制作mos栅结构、器件隔离和dram 电容结构中的单晶硅槽。多晶硅栅的结构对刻蚀要求很高,接触孔和通孔结构的制作需要刻蚀介质,从而在ild中刻蚀出窗口。多晶栅刻蚀通常采用氟基气体。喷射氟基气体需要用到耐腐蚀的喷嘴,即陶瓷喷嘴。由于硅片极其容易受到其他物质的污染,陶瓷喷嘴为陶瓷研磨加工,表面极易产生颗粒脱落,所以对于喷嘴表面的粗糙度值管控较高,粗糙度要求为ra0.2。一台刻蚀设备腔体内通常要使用20-30枚陶瓷喷嘴,更换周期短。国内普遍的陶瓷喷嘴的表面粗糙度的检测方法为人工检测,喷嘴粗糙度检测面较多,检测时需要一直调换喷嘴的位置,且对于喷嘴的位置无法进行同步,受多种因素影响。综上所述,现有的检测粗糙度的方法很难批量检测,无法保证陶瓷喷嘴检测粗糙度的稳定性、同步性和正确性。
技术实现思路
1、为了克服上述不足,本
...【技术保护点】
1.一种刻蚀设备用陶瓷喷嘴的表面粗糙度检测装置,其特征是,包括:
2.根据权利要求1所述的一种刻蚀设备用陶瓷喷嘴的表面粗糙度检测装置,其特征是,机械手对应设置有载料台,载料台上设置若干定位柱,陶瓷喷嘴套装在定位柱上进行定位。
3.根据权利要求2所述的一种刻蚀设备用陶瓷喷嘴的表面粗糙度检测装置,其特征是,载料台包括固定板和活动板,活动板可拆卸安装在固定板上,定位柱设置在活动板上,活动板上设置托板,陶瓷喷嘴支撑在托板上。
4.根据权利要求1所述的一种刻蚀设备用陶瓷喷嘴的表面粗糙度检测装置,其特征是,机械手对应设置有中转台,中转台上安装调
...【技术特征摘要】
1.一种刻蚀设备用陶瓷喷嘴的表面粗糙度检测装置,其特征是,包括:
2.根据权利要求1所述的一种刻蚀设备用陶瓷喷嘴的表面粗糙度检测装置,其特征是,机械手对应设置有载料台,载料台上设置若干定位柱,陶瓷喷嘴套装在定位柱上进行定位。
3.根据权利要求2所述的一种刻蚀设备用陶瓷喷嘴的表面粗糙度检测装置,其特征是,载料台包括固定板和活动板,活动板可拆卸安装在固定板上,定位柱设置在活动板上,活动板上设置托板,陶瓷喷嘴支撑在托板上。
4.根据权利要求1所述的一种刻蚀设备用陶瓷喷嘴的表面粗糙度检测装置,其特征是,机械手对应设置有中转台,中转台上安装调姿电机,调姿电机输出轴连接中转夹爪,中转夹爪装夹陶瓷喷嘴后调姿电机转动调整陶瓷喷嘴的姿态。
5.根据权利要求1所述的一种刻蚀设备用陶瓷喷嘴的表面粗糙度检测装置,其特征是,定位治具上设置负压吸附孔,转台上安装真空罐,负压吸附孔和真空罐通过管道连通,负压吸附孔对定位治具上的陶瓷喷嘴负压吸附定位。
6.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员:王轶军,马玉琦,闵文远,
申请(专利权)人:杭州大和江东新材料科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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