【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
技术介绍
1、存在零排放的竞赛以减少对环境的污染足迹。公司正在采取诸如不包括充电适配器以及重新创造包装选项之类的措施，以消除即使最小的对环境恶化的贡献者。
2、许多制造过程造成污染和包括温室气体的污染副产物。公司的碳足迹是一个或多个个人、事件、组织、服务、地点或产物导致的总温室气体排放（主要包括co2、ch4、n2o等）。随着主要组织继续搜寻成为碳中和公司的创造性方法，实施减少温室气体的系统越来越重要。
3、目前，在设计制造设施时，没有有效的方式来评估多个污染吸收系统。这是因为每当将新部件引入设施模型时，都必须重新计算总影响。在目前的技术水平下，这些计算最多是通过质量平衡方程手工完成的，并且必须特定针对每个设施模型手动创建每个污染减少解决方案。这种低效的过程被监管要求因地理位置而异所加重，因此每个减排系统都必须特定于制造设施的类型和它的地理位置两者。
4、因此，本领域中需要一种模拟系统，该系统能够实现多个污染减少系统的选择建模以及导入，以建模并实现在可接受水平的排放。
技<本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种用于将污染吸收结构集成到模拟模型中的系统，包括：
2.如权利要求1所述的系统，
3.如权利要求2所述的系统，
4.如权利要求3所述的系统，
5.如权利要求4所述的系统，
6.如权利要求1所述的系统，还包括：
7.如权利要求6所述的系统，
8.如权利要求1所述的系统，
9.如权利要求8所述的系统，
10.如权利要求9所述的系统，
11.如权利要求10所述的系统，
12.如权利要求11所述的系统，
13.如权利要求12所述
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种用于将污染吸收结构集成到模拟模型中的系统，包括：
2.如权利要求1所述的系统，
3.如权利要求2所述的系统，
4.如权利要求3所述的系统，
5.如权利要求4所述的系统，
6.如权利要求1所述的系统，还包括：
7.如权利要求6所述的系统，
8.如权...
【专利技术属性】
技术研发人员：A·R·贝西，P·K·帕努甘蒂，T·蒂加拉，
申请(专利权)人：阿韦瓦软件有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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