【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学器件,尤其涉及太赫兹圆偏振复用长焦深偏振态纵向演化超构器件设计方法及超构器件。
技术介绍
1、偏振现象,即电磁波中电场方向的有序运动。作为光的基本特性,偏振已经从量子光学和成像到光学显示、光与物质相互作用和传感等领域都得到了利用。传统的偏振控制器件,利用偏振器、波片等光学器件,独立的改变入射光束的正交偏振,将其转换为所需的局部偏振态分布。且其已经在偏振光栅、全息成像、多功能偏振控制器、偏振成像、矢量光束等方面得到了广泛的应用。
2、然而,传统的偏振控制方案通常将光的偏振视为一种全局静态特性,主要集中于横向单一平面的偏振态控制,难以实现纵向多平面空间偏振态的动态变化。
技术实现思路
1、为解决上述问题,本专利技术提供一种太赫兹圆偏振复用长焦深偏振态纵向演化超构器件设计方法及超构器件,实现了在线偏振太赫兹光入射下,超表面分别将左右旋分量聚焦于不同焦焦深处,通过偏振叠加原理,从而实现不同偏振态的生成。
2、为实现上述目的,本专利技术提供了太赫兹圆偏振复用
...【技术保护点】
1.太赫兹圆偏振复用长焦深偏振态纵向演化超构器件设计方法,其特征在于:包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的太赫兹圆偏振复用长焦深偏振态纵向演化超构器件设计方法,其特征在于:步骤S1具体包括以下步骤:
3.根据权利要求2所述的太赫兹圆偏振复用长焦深偏振态纵向演化超构器件设计方法,其特征在于:步骤S2具体包括以下步骤:
4.根据权利要求3所述的太赫兹圆偏振复用长焦深偏振态纵向演化超构器件设计方法,其特征在于:步骤S3具体包括以下步骤:
5.根据权利要求4所述的太赫兹圆偏振复用长焦深偏振态纵向演化超构器件设计方法,其特征在
...【技术特征摘要】
1.太赫兹圆偏振复用长焦深偏振态纵向演化超构器件设计方法,其特征在于:包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的太赫兹圆偏振复用长焦深偏振态纵向演化超构器件设计方法,其特征在于:步骤s1具体包括以下步骤:
3.根据权利要求2所述的太赫兹圆偏振复用长焦深偏振态纵向演化超构器件设计方法,其特征在于:步骤s2具体包括以下步骤:
4.根据权利要求3所述的太赫兹圆偏振复用长焦深偏振态纵向演化超构器件设计方法,其特征在于:步骤s3具体包括以下步骤:
5.根据权利要求4所述的太赫兹圆偏振复用长焦深偏振态纵向演化超构器件设计方法,其特征在于:在步骤s4中,全硅...
【专利技术属性】
技术研发人员:罗莉,刘肖,李杰,彭穗,刘波,王宇婷,王灵之,邹雨欣,周玲,
申请(专利权)人:成都信息工程大学,
类型:发明
国别省市:
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