具有晶圆上料动态调节功能的清洗花篮结构制造技术

技术编号:42635812 阅读:26 留言:0更新日期:2024-09-06 01:34
本发明专利技术属于半导体加工技术领域,具体是具有晶圆上料动态调节功能的清洗花篮结构,包括花篮,花篮的内部设置有对晶圆限位的限位件,花篮的下方设置对晶圆位置调节的调节机构,调节机构包括开设在花篮两侧的滑槽,滑槽内滑动设置有滑块;本发明专利技术是通过对若干个晶圆提供向上的推力,起到对若干个晶圆动态调节的功能,使若干个晶圆的底部边缘处与清洗花篮的内壁分离,避免积攒清洗剂,保证净水对晶圆表面残余清洗剂去除的效率,并通过喷气管吹出的气流将加快花篮内部空气的流速,且避免清洗花篮内的水分附着在晶圆的底部,增大水分与空气的接触面积,进一步减少需要干燥晶圆的时间,以保证晶圆的加工效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体加工,具体是具有晶圆上料动态调节功能的清洗花篮结构


技术介绍

1、在半导体行业中,晶圆清洗花篮是一种重要的工具,主要用于晶圆的承载和传输,传统的晶圆清洗花篮是将晶圆竖直放置并通过卡槽固定,为了防止质量较轻的晶圆在清洗过程中,因浮力等意外因素从清洗花篮中滑出,通常在晶圆的上方位置还设置有压条,而在向清洗花篮中取放晶圆时,压条容易划伤晶圆的工艺面造成晶圆损耗,亟需提出一种方案解决上述的技术缺陷;

2、如公开号为cn219350172u的现有技术,该方案中由于压条安装件设置在沿晶圆排列方向延伸的侧部,放置在容置空间中的晶圆的工艺面与该压条安装件的方向垂直,所以工作人员自容置空间中取放晶圆的过程中,晶圆无需经过压条安装件的位置,确保压条安装件不会接触晶圆工艺面,避免了压条安装件划伤晶圆工艺面问题的发生;

3、但是,上述清洗花篮内的晶圆通过清洗剂清洗完毕后,需要将该清洗花篮吊运至净水池内,通过其内部的净水去除晶圆表面残余的清洗剂,由于晶圆在清洗花篮内处于固定状态,晶圆底部边缘处与清洗花篮的内壁处于接触状态,容易积攒清洗剂本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.具有晶圆上料动态调节功能的清洗花篮结构,包括花篮(4),其特征在于,所述花篮(4)的内部设置有对晶圆限位的限位件(6),所述花篮(4)的下方设置对晶圆位置调节的调节机构(3),所述调节机构(3)包括开设在花篮(4)两侧的滑槽(10),所述滑槽(10)内滑动设置有滑块(31),所述滑块(31)的顶部固定连接有提拉板(9),两个所述提拉板(9)的顶壁上固定连接有把手(2),所述提拉板(9)的底部固定安装有拉杆(32),所述拉杆(32)的底部转动设置有滚轮(33);

2.根据权利要求1所述的具有晶圆上料动态调节功能的清洗花篮结构,其特征在于,所述L形转动架(38)的底部开设有限...

【技术特征摘要】

1.具有晶圆上料动态调节功能的清洗花篮结构,包括花篮(4),其特征在于,所述花篮(4)的内部设置有对晶圆限位的限位件(6),所述花篮(4)的下方设置对晶圆位置调节的调节机构(3),所述调节机构(3)包括开设在花篮(4)两侧的滑槽(10),所述滑槽(10)内滑动设置有滑块(31),所述滑块(31)的顶部固定连接有提拉板(9),两个所述提拉板(9)的顶壁上固定连接有把手(2),所述提拉板(9)的底部固定安装有拉杆(32),所述拉杆(32)的底部转动设置有滚轮(33);

2.根据权利要求1所述的具有晶圆上料动态调节功能的清洗花篮结构,其特征在于,所述l形转动架(38)的底部开设有限位槽,所述推拉架(37)远离传动辊(35)的一端固定连接有拨杆(36),所述拨杆(36)与限位槽活动连接。

3.根据权利要求1所述的具有晶圆上料动态调节功能的清洗花篮结构,其特征在于,所述推拉架(37)横向设置在花篮(4)上,且推拉架(37)的一端位于花篮(4)内,所述传动辊(35)位于晶圆的底部,两个所述传动辊(35)相对于花篮(4)的中部对称设置。

4.根据权利要求1所述的具有晶圆上料动态调节功能的清洗花篮结构,其特征在于,所述l形转动架(38)的上方从远离花篮(4)的一侧至靠近花篮(4)的一侧倾斜向上设置。...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘建蔚廖爱娟陈荔芬
申请(专利权)人:兴宇宏半导体科技苏州有限公司
类型:发明
国别省市:

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