【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学装置、投影光学系统、曝光装置和物品制造方法。
技术介绍
1、在半导体器件、液晶显示装置等的器件制造工序中所包含的光刻工序中，使用曝光装置。曝光装置是经由投影光学系统将原版(掩膜等)的图案转印到感光性的基板(在表面形成有抗蚀剂层的晶片、玻璃板等)的装置。如专利文献1所示，投影光学系统包含透镜、反射镜等光学构件以及收容它们的收容构件(腔体)。如专利文献2所示，投影光学系统需要调温。这是为了防止由光学构件或腔体的热变形、光路的温度不均引起的成像性能的降低。
2、近年，液晶显示器件的大型化发展，在曝光装置的投影光学系统的投影倍率为1倍(等倍)时，原版大型化、制造成本上升的问题逐渐显现。因此，在专利文献3中，提出具有超过1倍的投影倍率的放大投影光学系统。在专利文献3中，将投影光学系统的凹面反射镜分割成2个，且将2个凹面反射镜配置为高低不同。
3、现有技术文献
4、专利文献
5、专利文献1：日本特开昭60-201316号公报
6、专利文献2：日本特开2014-007268号公报
7、专利文献3：日本特开2007-335057号公报
技术实现思路
1、专利技术要解决的课题
2、在将2个凹面反射镜配置为高低不同的情况下，由于其高低差，无法使调温流体(气体)沿着2个凹面反射镜的反射面流动。因此，无法高效率地对凹面反射镜进行调温，无法得到稳定的成像性能。
3、如图6(a)所示，从供气口55
4、也考虑设置多个供气口55并使气体50朝向凹面反射镜51的反射面51a和凹面反射镜52的反射面52a分别流动的结构。然而，在该情况下，气体50的路径交叉，因此无法高效率地进行气体50的回收。
5、如此，在以往的调温方式中，难以使调温流体以沿着具有高低差的2个凹面反射镜的反射面的方式流动，因此无法得到稳定的成像性能。
6、本专利技术实现调温流体沿着各个凹面反射镜的反射面流动的结构，提供有利于成像性能的稳定化的技术。
7、用于解决课题的手段
8、根据本专利技术的第1方面，提供一种光学装置，其特征在于，具备：第1凹面反射镜，具有第1反射面；第2凹面反射镜，与所述第1凹面反射镜分离地配置，所述第2凹面反射镜具有第2反射面；以及整流部，将沿着所述第2凹面反射镜的所述第2反射面流动的气流向所述第1凹面反射镜的所述第1反射面引导。
9、根据本专利技术的第2方面，提供一种光学装置，其特征在于，具备：第1凹面反射镜，具有第1反射面；第2凹面反射镜，与所述第1凹面反射镜分离地配置，所述第2凹面反射镜具有第2反射面；以及整流部，被配置在所述第1凹面反射镜和所述第2凹面反射镜之间，所述整流部由所述第1凹面反射镜或所述第2凹面反射镜支撑。
10、根据本专利技术的第3方面，提供一种将形成在原版的图案投影到基板之上的投影光学系统，该投影光学系统的特征在于，包含上述第1方面或第2方面的光学装置。
11、根据本专利技术的第4方面，提供一种对基板进行曝光的曝光装置，该曝光装置的特征在于，包含上述第3方面的投影光学系统。
12、根据本专利技术的第5方面，提供一种物品制造方法，其特征在于，包含：使用上述第4方面的曝光装置对基板进行曝光的工序；以及对曝光后的所述基板进行显影的工序，从显影后的所述基板制造物品。
13、专利技术效果
14、根据本专利技术，能够实现调温流体沿着各个凹面反射镜的反射面流动的结构，由此能够提供有利于成像性能的稳定化的技术。
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1.一种光学装置，其特征在于，具备：
2.如权利要求1所述的光学装置，其特征在于，
3.如权利要求1所述的光学装置，其特征在于，还具有：
4.如权利要求3所述的光学装置，其特征在于，
5.如权利要求4所述的光学装置，其特征在于，还具备：
6.如权利要求5所述的光学装置，其特征在于，
7.如权利要求4所述的光学装置，其特征在于，
8.如权利要求7所述的光学装置，其特征在于，
9.如权利要求8所述的光学装置，其特征在于，
10.如权利要求1所述的光学装置，其特征在于，
11.如权利要求1所述的光学装置，其特征在于，
12.如权利要求1所述的光学装置，其特征在于，
13.一种光学装置，其特征在于，具备：
14.一种投影光学系统，将形成在原版的图案投影到基板之上，所述投影光学系统的特征在于，包含：
15.一种曝光装置，对基板进行曝光，所述曝光装置的特征在于，包含：
16.一种物品制造方法，其特征在于，包含：p>...
【技术特征摘要】
1.一种光学装置，其特征在于，具备：
2.如权利要求1所述的光学装置，其特征在于，
3.如权利要求1所述的光学装置，其特征在于，还具有：
4.如权利要求3所述的光学装置，其特征在于，
5.如权利要求4所述的光学装置，其特征在于，还具备：
6.如权利要求5所述的光学装置，其特征在于，
7.如权利要求4所述的光学装置，其特征在于，
8.如权利要求7所述的光学装置，其特征在于，
9.如权利要求8所述的光...
【专利技术属性】
技术研发人员：西川友弘，羽切正人，木村一贵，关美津留，由井友树，白畑恭平，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：
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