【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学装置、投影光学系统、曝光装置和物品制造方法。
技术介绍
1、在半导体器件、液晶显示装置等的器件制造工序中所包含的光刻工序中，使用曝光装置。曝光装置是经由投影光学系统将原版(掩膜等)的图案转印到感光性的基板(在表面形成有抗蚀剂层的晶片、玻璃板等)的装置。如专利文献1所示，投影光学系统包含透镜、反射镜等光学构件以及收容它们的收容构件(腔体)。如专利文献2所示，投影光学系统需要调温。这是为了防止由光学构件或腔体的热变形、光路的温度不均引起的成像性能的降低。
2、近年，液晶显示器件的大型化发展，在曝光装置的投影光学系统的投影倍率为1倍(等倍)时，原版大型化、制造成本上升的问题逐渐显现。因此，在专利文献3中，提出具有超过1倍的投影倍率的放大投影光学系统。在专利文献3中，将投影光学系统的凹面反射镜分割成2个，且将2个凹面反射镜配置为高低不同。
3、现有技术文献
4、专利文献
5、专利文献1：日本特开昭60-201316号公报
6、专利文献2：日本特开2014-007268
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【技术保护点】
1.一种光学装置，其特征在于，具备：
2.如权利要求1所述的光学装置，其特征在于，
3.如权利要求1所述的光学装置，其特征在于，还具有：
4.如权利要求3所述的光学装置，其特征在于，
5.如权利要求4所述的光学装置，其特征在于，还具备：
6.如权利要求5所述的光学装置，其特征在于，
7.如权利要求4所述的光学装置，其特征在于，
8.如权利要求7所述的光学装置，其特征在于，
9.如权利要求8所述的光学装置，其特征在于，
10.如权利要求1所述的光学装置，其特征在于
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【技术特征摘要】
1.一种光学装置，其特征在于，具备：
2.如权利要求1所述的光学装置，其特征在于，
3.如权利要求1所述的光学装置，其特征在于，还具有：
4.如权利要求3所述的光学装置，其特征在于，
5.如权利要求4所述的光学装置，其特征在于，还具备：
6.如权利要求5所述的光学装置，其特征在于，
7.如权利要求4所述的光学装置，其特征在于，
8.如权利要求7所述的光学装置，其特征在于，
9.如权利要求8所述的光...
【专利技术属性】
技术研发人员：西川友弘，羽切正人，木村一贵，关美津留，由井友树，白畑恭平，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：
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