一种红外超构表面透镜的制作方法技术

本发明专利技术涉及红外材料制备技术领域，提供了一种红外超构表面透镜的制作方法，包括如下步骤：S1，在器件层顶面形成与所需超构表面微结构形状一致的光刻胶图形；S2，从器件层顶面对器件层进行刻蚀，形成若干微结构；S3，去除光刻胶，将器件层的顶面与透镜基底结合；S4，去除器件层上除所需超构表面微结构以外的多余物，得到具有高度一致的若干微结构的超构表面透镜。本发明专利技术通过将刻蚀后的器件层的顶面与透镜基底结合，保证超构表面微结构靠近透镜基底的一侧是平齐的，通过去除器件层上的多余物，保证超构表面微结构远离透镜基底的一侧也是平齐的，可以得到平面尺寸精准，深度一致的超构表面微结构，从而保证最终成像质量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及红外材料制备，具体为一种红外超构表面透镜的制作方法。

技术介绍

1、由于硅材料具有较高的红外光线透过率，因此，红外超构表面透镜是采用在硅晶圆表面光刻出亚微米至微米尺寸的圆柱，圆环或者多边形等等特殊形状的图形，利用深硅刻蚀工艺将光刻图形转移到硅晶圆上，刻蚀深度为几微米至几十微米范围，再利用清洗液将晶圆清洗干净，最终在硅晶圆表面形成不同平面尺寸、相同深度的微结构，呈现为周期性排列，从而达到对红外光进行汇聚成像的功能。

2、超构表面透镜微结构的平面尺寸是通过光刻工艺来实现，深度是由刻蚀工艺实现。光刻工艺能够保证其精准度，但刻蚀工艺就不能保证精准度，这是由于图形开口面积大小不一，换句话说，就是相邻凸柱之间的间距不同，那么在刻蚀时会因为刻蚀负载效应，导致不同间隙处的刻蚀深度产生差异，形成微结构凸柱高度的差异，从而影响成像性能。

技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种红外超构表面透镜的制作方法，至少可以解决现有技术中的部分缺陷。

2、为实现上述目的，本专利技术实施例提供如下技本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种红外超构表面透镜的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

2.如权利要求1所述的一种红外超构表面透镜的制作方法，其特征在于：

3.如权利要求2所述的一种红外超构表面透镜的制作方法，其特征在于，

4.如权利要求3所述的一种红外超构表面透镜的制作方法，其特征在于，所述填充物的材质为氧化硅，采用镀膜工艺填充于相邻微结构之间的间隙。

5.如权利要求3所述的一种红外超构表面透镜的制作方法，其特征在于，采用化学腐蚀去除相邻微结构之间的填充物。

6.如权利要求1所述的一种红外超构表面透镜的制作方法，其特征在于，在所述S1步骤前，于衬底上...

【技术特征摘要】

1.一种红外超构表面透镜的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

2.如权利要求1所述的一种红外超构表面透镜的制作方法，其特征在于：

3.如权利要求2所述的一种红外超构表面透镜的制作方法，其特征在于，

4.如权利要求3所述的一种红外超构表面透镜的制作方法，其特征在于，所述填充物的材质为氧化硅，采用镀膜工艺填充于相邻微结构之间的间隙。

5.如权利要求3所述的一种红外超构表面透镜的制作方法，其特征在于，采用化学腐蚀去除相邻微结构之间的填充物。

6.如权利要求1所述的一种红外超构表面透镜的制作方法，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄晟，黄立，汪超，蔡佳雨，蒋文杰，王春水，
申请(专利权)人：武汉高芯科技有限公司，
类型：发明
国别省市：