一种复合分离结构，具有：基体部、与该基体部相接配置的第一分离部、不与基体部相接且与第一分离部相接配置的第二分离部，该第二分离部为非晶体并且从与第一分离部相接的端部到相反的端部为止的厚度为5nm～200nm。本发明专利技术可提供能够以高分离性分离各种动力学直径(kinetic diameter)小的气体、特别地实现包含动力学直径为以下的气体的气体混合物的分离或浓缩的复合分离结构及其制造方法。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及从含有多种气体成分的混合气体中透过透过性高的物质而浓缩透过性低的物质的复合分离结构、以及使用该复合分离结构的分离、浓缩方法。
技术介绍
1、近年来，作为具有持续性的清洁能源的氢受到重视，不断进行氢的分离和生成技术的开发。例如，需要将水煤气变换反应中生成的二氧化碳(co2)和氢(h2)进行分离和纯化、从氢载体的有机氢化物中分离并纯化氢(h2)。此外，需要从利用光催化剂分解水而生成的氢(h2)、氧(o2)和水蒸气(h2o)的混合气体中分离并纯化氢(h2)。
2、以往，气体的分离采用化学吸附法、psa(变压吸附法)等技术。但是，利用基于psa(变压吸附法)等的吸附和吸收而进行的分离需要对吸附和吸收的气体进行脱离的工序且为分批处理，因此为了实现连续工艺而需要多个单元。此外，吸附剂的再生需要能量。与此相对，作为气体的分离浓缩方法之一的膜分离法能够实现连续分离，也可以减小设备规模。
3、作为基于分离膜的气体分离的方法，有使用高分子分离膜的方法。然而，高分子分离膜虽然具有加工性优异的特征，但在具有燃烧性的方面上存在问题。例如，在有可本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种复合分离结构，其特征在于，具有：基体部、与该基体部相接配置的第一分离部、不与基体部相接且与第一分离部相接配置的第二分离部，
2.一种复合分离结构，其特征在于，具有：基体部、与该基体部相接配置的第一分离部、不与基体部相接且与第一分离部相接配置的第二分离部，
3.一种复合分离结构，其特征在于，具有：基体部、与该基体部相接配置的第一分离部、不与基体部相接且与第一分离部相接配置的第二分离部，
4.一种复合分离结构，其特征在于，具有：基体部、与该基体部相接配置的第一分离部、不与基体部相接且与第一分离部相接配置的第二分离部，
>5.根据权利要求1...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种复合分离结构，其特征在于，具有：基体部、与该基体部相接配置的第一分离部、不与基体部相接且与第一分离部相接配置的第二分离部，
2.一种复合分离结构，其特征在于，具有：基体部、与该基体部相接配置的第一分离部、不与基体部相接且与第一分离部相接配置的第二分离部，
3.一种复合分离结构，其特征在于，具有：基体部、与该基体部相接配置的第一分离部、不与基体部相接且与第一分离部相接配置的第二分离部，
4.一种复合分离结构，其特征在于，具有：基体部、与该基体部相接配置的第一分离部、不与基体部相接且与第一分离部相接配置的第二分离部，
5.根据权利要求1～4中任一项所述的复合分离结构，其中，所述基体部为无机多孔材料。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的复合分离结构，其中，所述第一分离部为沸石。
7.根据权利要求6所述的复合分离结构，其中，所述沸石为具有六元氧环或八元氧环结构的沸石。
8.根据权利要求6或7所述的复合分离结构，其中，所述沸石为膜状。
9.根据权利要求8所述的复合分离结构，其中，所述沸石的膜厚为0.1μm～100μm。
10.根据权利要求1～9中任一项所述的复合分离结构，其中，所述第二分离部的主要构成元素为si和o。
11.根据权利要求10所述的复合分离结构，其中，所述第二分离部为膜状。
12.根据权利要求11所述的复合分离结构，其中，所述第二分离部为膜厚5nm～200nm的二氧化硅膜。
13.根据权利要求1～12中任一项所述的复合分离结构，其中，将氢与氧的比例为2且其压力以表压计为0.2mpa以下的氢氧混合气以氢渗透率与氧渗透率之比α即h2/o2为10～110的方式进行分离。
14.一种权利要求1～12中任一项所述的复合分离结构的制造方法，其特征在于，与基体部相接地形成第一分离部，然后，通过将第一分离部的与基体部相接的一侧的相反侧的端部暴露于至少包含具有si原子的分子化合物的气体而形成第二分离部。
15.根据权利要求14所述的复合分离结构的制造方法，其中，所述包含具有si原子的分子化合物的...
【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤公则，堀江秀善，菊地智久，宮城秀和，林干夫，武胁隆彦，
申请(专利权)人：三菱化学株式会社，
类型：发明
国别省市：
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