显示基板及其制造方法、近眼光场显示装置及可穿戴设备制造方法及图纸

本申请公开了一种显示基板及其制造方法、近眼光场显示装置及可穿戴设备。显示基板包括基板、第一透镜层、平坦层、隔离层以及第二透镜层；第一透镜层包括若干阵列排布的第一透镜；平坦层设置于第一透镜层远离基板的一侧；隔离层设置于平坦层远离第一透镜层的一侧；第二透镜层设置于隔离层远离平坦层的一侧；隔离层用于隔离平坦层与第二透镜层之间的应力。本申请通过设置隔离层隔离平坦层与第二透镜层500之间的应力传递，防止了透镜与平坦层之间由于热膨胀系数不同引起大面积的褶皱与膜层脱落。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示，尤其涉及一种显示基板及其制造方法、近眼光场显示装置及可穿戴设备。

技术介绍

1、vr(virtual reality，虚拟现实)产业的兴起带动了3d硬件和3d内容的快速成熟与发展。近眼显示技术侧重提高视觉沉浸体验。受限于目前的技术能力，市场上vr产品绝大部分处于“部分沉浸”式阶段，即单眼屏幕分辨率为2k、视场角较小、无法变焦显示等，影响用户体验。而光场技术在高性能显示、可连续变焦显示这些方面可以满足人眼需求，成为近眼显示领域追求的终极显示目标。

2、现有的光场技术在叠层mla技术(micro lens array，微透镜阵列)应用上存在问题。

技术实现思路

1、本申请的目的在于提供一种显示基板及其制造方法、近眼光场显示装置及可穿戴设备。

2、本申请公开了一种显示基板，其包括：

3、基板；

4、第一透镜层，所述第一透镜层包括若干阵列排布的第一透镜；

5、平坦层，所述平坦层设置于所述第一透镜层远离所述基板的一侧；</p>

6、隔离本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种显示基板，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述隔离层的厚度小于等于110纳米。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述隔离层为氧化硅隔离层。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一透镜的一侧与所述基板贴合，另一侧向远离所述基板的方向凸起；所述第二透镜的一侧与所述隔离层贴合，另一侧向远离所述隔离层的方向凸起。

5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述隔离层通过在小于等于90℃条件下沉积制造。

6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述基板包括若...

【技术特征摘要】

1.一种显示基板，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述隔离层的厚度小于等于110纳米。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述隔离层为氧化硅隔离层。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一透镜的一侧与所述基板贴合，另一侧向远离所述基板的方向凸起；所述第二透镜的一侧与所述隔离层贴合，另一侧向远离所述隔离层的方向凸起。

5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述隔离层通过在小于等于90℃条件下沉积制造。

6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述基板包括若干阵列排布的像素单元；所述第一透镜层的若干所述第一透镜对应覆盖若干所述像素单元。

7.根据权利要求6所述的显示...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵建军，顾仁权，黎午升，李士佩，薛汶青，王大军，马连铮，翟鑫旺，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：