【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体量测,特别涉及一种用于批量回归分析的向量化计算方法及系统。
技术介绍
1、光学关键尺寸(optical critical dimension,ocd)量测技术和薄膜厚度(thinfilm)量测技术均广泛应用于半导体芯片制造量测领域,对半导体产品的质量监测、工艺优化、成本控制、良品率提升等具有重要意义。量测技术的数学原理是通过一系列的复杂算法,即正问题与反问题的结合,在不破坏待测样本的前提下,获取半导体芯片的实际物理形貌以及关键尺寸。
2、回归分析是通用的反问题求解方法。常见的回归算法有最速下降法(或梯度下降法)、高斯牛顿法(gauss-newton或gn)、列文伯格-马夸尔特法(levenberg-marquardt或lm),拟牛顿法如bfgs等。其中,lm法可视为最速下降法和gn法的结合:当距离最优解较远时,lm法偏向于最速下降法,能够快速确定下降方向;当逐渐接近最优解时,lm法偏向于gn法,能够快速收敛至最优解。lm法因其高性能和强鲁棒性而被业界广泛使用。
3、在一些实际应用场景中,存在批
...【技术保护点】
1.一种用于批量回归分析的向量化计算方法,其特征在于,包括如下步骤:
2.根据权利要求1所述的用于批量回归分析的向量化计算方法,其特征在于,输入任务的初始点集,构建初始矩阵M0、残差矩阵Rv和标记向量F包括:
3.根据权利要求1所述的用于批量回归分析的向量化计算方法,其特征在于,构建向量化的雅可比矩阵Jv包括:
4.根据权利要求1所述的用于批量回归分析的向量化计算方法,其特征在于,优化矩阵乘法,得到向量化乘法矩阵JJv和JRv包括:
5.根据权利要求1所述的用于批量回归分析的向量化计算方法,其特征在于,优化求解逆矩阵,得
...【技术特征摘要】
1.一种用于批量回归分析的向量化计算方法,其特征在于,包括如下步骤:
2.根据权利要求1所述的用于批量回归分析的向量化计算方法,其特征在于,输入任务的初始点集,构建初始矩阵m0、残差矩阵rv和标记向量f包括:
3.根据权利要求1所述的用于批量回归分析的向量化计算方法,其特征在于,构建向量化的雅可比矩阵jv包括:
4.根据权利要求1所述的用于批量回归分析的向量化计算方法,其特征在于,优化矩阵乘法,得到向量化乘法矩阵jjv和jrv包括:
5.根据权利要求1所述的用于批量回归分析的向量化计算方法,其特征在于,优化求解逆矩阵,得到批量搜索步长矩阵dxs包括...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈思元,赵礼,叶俊杰,
申请(专利权)人:上海诺睿科半导体设备有限公司,
类型:发明
国别省市:
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