具有色彩图样显影片制程及其产品制造技术

本发明专利技术公开了一种具有色彩图样显影片制程及其产品，其主要是先将在基材上的杂质清除，使杂质能脱离基材的表面，于清洗过的基材上涂布一层光阻层，并对于涂布光阻层的基材进行曝光显影，使基材上形成镂空的网点组合图案，再将经曝光显影处理后的基材放置于一真空镀模机中进行镀模，经过真空镀模处理后，将基材的光阻层予以去除，即可于基材上产生单一色彩的镂空网点组合图案，并通过重复曝光显影、镀膜及去除光阻层的流程即可在单一基材上得到彩色效果的图案。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是关于一种显影片制程及其产品，尤指一种形成彩色图样显影 片制程及其产品，其属于光学产品的
范畴。
技术介绍
随着二十世纪的真空技术、计算机、控制技术及材料技术的进步，使 得多层薄膜的制作已成为可行的事实，且进一步发展为商业甩途，其中光 学薄膜大部分属于多层设计的结构，而形成薄膜的镀膜技术可分为液态成 膜法与气态成膜法两种，前者大多涉及化学变化，后者有些是利用化学作用，有些则是属于物理作用；其中在基材如玻璃的表面利用产生薄膜的方 式，使基材的表面因薄膜而形成图案的效果， 一般是通过激光雕刻和药剂 刻蚀两种来形成所需的图案；然而，一般的镀膜材料如二氧化钛(Ti02)的熔点(2000°C)及二氧 化硅(Si02)的熔点(1700'C)，都比基材如玻璃的熔点(700°C)高，因 此当通过激光使镀膜材料产生汽化的同时，也会对于玻璃的表面产生损伤， 进而使基材上的图案产生模糊雾化及透光性不佳的现象，且雕刻处与未雕 刻处的边缘会使薄膜的附着力不佳，在高温使用时会使薄膜产生脱落，使 制作的显影片质量下降，这也是激光雕刻的主要缺点，加上一次仅可针对 单片玻璃进行单色的雕刻使制程的效率降低，而若要形成彩色的图案片， 则需将多片的玻璃进行胶合，而进行胶合所使用的黏合材料对于显影片的穿透率会有所影响，加上进行多片玻璃胶合，其所需的夹具(治具)也相 对地加大，且多片玻璃胶合的方式对于图案的定位会产生偏差，加上通过 胶合所产生的彩色图案片在高功率灯光的使用下会有脱落的情形产生，再 者激光雕刻的设备较贵，相较之下其成本最高；另外，药剂刻蚀由于是釆用腐蚀的方式，其功率无法如同一般的镀膜 条件，必需采用较低的输出功率，而低功率的输出则容易造成所形成的薄 膜的致密性不足，而产生热飘移的现象，加上所使用的药剂(如氢氟酸) 对于基材(如玻璃)亦会产生侵蚀，因此当蚀刻的温度、浓度及时间等参 数控制不好时对于玻璃基材会产生雾化的现象，使未镀膜的区域透光性不 佳，虽然药剂刻蚀所需的成本较低，但受限于薄膜的质量，当薄膜的致密 性较低时，药剂虽较容易在显影片上蚀刻出图案，但在显影片的使用上则 会有热飘移的现象，而当薄膜的致密性较佳时，氢氟酸熔解镀膜材料的困 难度会提高，虽所蚀刻的显影片在使用上没有热飘移的现象，但因不易蚀 刻所以容易使基材受损，进而使薄膜在高温使用时会有膜层脱落的现象， 因此药剂刻蚀最大的困难在于如何控制氢氟酸只熔解镀膜材料而不侵蚀到 玻璃，再者氢氟酸属强酸，易对人体及环境造成伤害，且若要形成彩色的 图案片，亦需将多片的玻璃进行胶合，而使用的黏合材料对于显影片的穿 透率会有所影响，加上进行多片玻璃胶合，其所需的夹具(治具)也相对 地加大，且多片玻璃胶合的方式对于图案的定位亦会产生偏差，而通过胶 合所产生的彩色图案片在高功率灯光的使用下亦有脱落的情形产生。因此，本专利技术人有鉴于上述两种镀膜技术的缺失与不足，对于显影片 的制造及质量的维持上有所困难，因此无法符合一般业界的需求，特经过 不断的研究与试验，终于发展出一种能改进现有缺失的本专利技术。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于，提供一种具有色彩图样显影片制程及其产品， 该制程可直接在单一显影片上呈现高分辨率的彩色图案，并且所制作的显 影片除了穿透性及膜层致密性提高外，且不会有热飘移的情形及胶合的问 题，使显影片的质量能有效控管进而提升产品的质量，可达到提高显影片 镀膜的使用性及功能性的目的。为达到上述目的，本专利技术首先提供一种具有色彩图样显影片制程，其 包括(一) 基材清洗主要是将在基材上的杂质清除，使杂质能脱离基材 的表面，且基材在清洗后具有干净的表面，以利于下一流程的进行；(二) 曝光处理于清洗过的基材上涂布一层光阻层，并对于涂布光 阻层的基材进行曝光显影，使基材上形成镂空的网点组合图案；(三) 真空镀膜将经曝光显影处理后的基材放置于一真空镀模机中 进行镀模；以及(四) 去除光阻层经过真空镀模处理后，将基材的光阻层予以去除， 即可于基材上产生单一色彩的镂空网点组合图案。较佳地，清洗基材主要是通过超声波震荡的方式对基材进行清洗，使 吸附在基材上的杂质经由超声波的震荡脱离基材表面。较佳地，镀膜方式是通过离子助镀的方式镀膜，以该离子助镀的镀膜 方式进行镀膜，通过离子使镀膜材料的原子(分子)沉积在基材表面时能 提高膜层的致密性，使基材上所形成膜的品质提高，而所需的图案因覆盖 在光阻层下，所以在镀膜的过程中不会有镀膜的情形。较佳地，重复第(二)、(三)及(四)的流程可在单一基材上得到 彩色效果的图案。本专利技术提供由以上制程所制造出来的具有色彩的显影片产品。 经由上述的流程所制作出的显影片，具有下列的优点一、 遮盖基材通过涂布光阻层的方式，使基材经由光阻层的遮盖后， 可有效避免激光或药剂于镀膜时对于基材产生损坏及侵蚀，有效提高显影 片于镀膜时的质量。二、 彩色显影片通过光阻层的遮盖方式，可使单一基材于反复的曝 光显影及镀膜后，于单一显影片上形成具有彩色效果的显影片。三、 提高生产量高功率的离子辅助蒸镀所形成的薄膜致密性佳，不 会有热飘移现象产生，且镀膜时不会对膜层有所损伤，所以膜层不会有脱 落的现象。 '附图说明图1为本专利技术的单色显影片的制作流程图。 图2为本专利技术的彩色显影片样品的制作流程图。 图3为印刷三原色的颜色叠加示意图。 附件一为印刷三原色的颜色叠加的彩色示意图。具体实施例方式本专利技术提供一种具有色彩图样显影片制程及其产品，其是通过反复涂 布光阻层、曝光显影及镀模的方式，即可于单一基材上产生高解析度的彩 色图案，达到大幅提高彩色显影片的使用性及功能性的目的。光学薄膜应用于彩色显影片方面，主要的技术是通过颜色叠加(迭加)质，如图3所示将印刷三原色(CMY)中的青绿色(Cyan)、品红色(Magenta) 及黄色(Yellow)经叠加的方式来产生红色(Red)、绿色(Green)及蓝色(Blue)的光三原色(RGB)，因此本专利技术是基于颜色叠加的特性进行 应用，为能详细了解本专利技术的技术特征及功效，并可依照说明书的内容来 实施，兹进一步以附图(如图1至图2)所示的较佳实施例，详细说明如后 该具有色彩显影片的制程主要包含(一) 基材清洗主要是将基材上的杂质清除，而本专利技术主要是通过超声波震荡的方式对基材进行清洗，使吸附在基材上的杂质经由超声波的 震荡，使杂质能脱离基材的表面，基材在清洗后具有干净的表面，以利于下一流程的顺利进行；(二) 曝光处理于清洗过的基材上涂布一层光阻层，并对于涂布光 阻层的基材进行曝光显影，使基材上形成镂空的网点组合图案；(三) 真空镀膜将经曝光显影处理后的基材放置于一真空镀模机中， 并通过离子助镀的镀膜方式进行镀膜，通过离子使镀膜材料的原子(分子) 沉积在基材表面时能提高膜层的致密性，使基材上所形成膜的品质提高， 而所需的图案因覆盖在光阻层下，所以在镀膜的过程中不会有脱落的情形； 以及(四) 去除光阻层经过真空镀模处理后，将基材的光阻层予以去除， 即可于基材上产生单一色彩的镂空网点组合图案。经由上述的(一)、(二)、(三)及(四)的流程后可在基材上形 成单一色彩的显影片。若将上述(二)、(三)及(四)的流程重复制作，即可在单一的基 材上制作出高分辨率的彩色显影片本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有色彩图样显影片制程，其包含：　一、基材清洗：主要是将在基材上的杂质清除，使杂质能脱离基材的表面，基材在清洗后具有干净的表面，以利于下一流程的进行；　二、曝光处理：于清洗过的基材上涂布一层光阻层，并对于涂布光阻层的基材进行 曝光显影，使基材上形成镂空的网点组合图案；　三、真空镀膜：将经曝光显影处理后的基材放置于一真空镀模机中进行镀模；以及　四、去除光阻层：经过真空镀模处理后，将基材的光阻层予以去除，即能于基材上产生单一色彩的镂空网点组合图案。

【技术特征摘要】
1.一种具有色彩图样显影片制程，其包含一、基材清洗主要是将在基材上的杂质清除，使杂质能脱离基材的表面，基材在清洗后具有干净的表面，以利于下一流程的进行；二、曝光处理于清洗过的基材上涂布一层光阻层，并对于涂布光阻层的基材进行曝光显影，使基材上形成镂空的网点组合图案；三、真空镀膜将经曝光显影处理后的基材放置于一真空镀模机中进行镀模；以及四、去除光阻层经过真空镀模处理后，将基材的光阻层予以去除，即能于基材上产生单一色彩的镂空网点组合图案。2. 如权利要求l所述的具有色彩图样显影片制程，其特征在于，前述 基材清洗主要是通过超声波震荡的方式对基材进行清洗，使吸附在基材上的 杂质经由超声波的震荡脱离基材表面。3. 如权利要求2所述的具有色彩图样显影片制程，其特征在于，前述镀膜是通过离子助镀的方式镀膜，利用离子助镀的镀膜方式进行镀膜，离子 使镀膜材料...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈政欣，
申请(专利权)人：宝镇光电科技股份有限公司，欣泉光印股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]