【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及冷机系统,尤其是涉及使冷媒在与对形成于晶片上的多个芯片进行电检查的检查装置中的晶片搭载台之间循环的冷机系统。
技术介绍
1、在半导体的制造工序中,利用探测器进行形成于晶片上的芯片的电特性的检查。为了该检查时间的缩短以及成本减少,近年来,同时检查的芯片的数量正在增大。例如,即使在芯片为发热量较小的dram(dynamic random access memory)、闪存器等的情况下,若同时检查的芯片的数量增大,则在检查时从晶片整体产生的发热量也增大。
2、另外,车载用芯片等芯片在广泛的用途中使用,为了保证在与该用途相应的温度环境中芯片也正常动作,检查时的温度环境的范围也扩大。因此,在范围大的温度环境下,检查时的芯片的发热量增加。
3、于是,以往,提出了各种对在探测器中搭载晶片的搭载台的表面的温度进行控制的技术。例如,在专利文献1中,公开了用于对探测器的晶片吸盘(搭载台)的温度进行控制的冷机机构。该冷机机构具有冷却路径以及冷却液冷却路径。
4、在冷却路径中,保持冷却液的罐与晶片吸盘通过从罐朝
...【技术保护点】
1.一种冷机系统,其使冷媒在晶片搭载台与冷机单元之间循环,其中,
2.根焊权利要求1所述的冷机系统,其中,
3.根据权利要求2所述的冷机系统,其中,
4.根据权利要求2或3所述的冷机系统,其中,
5.根据权利要求4所述的冷机系统,其中,
6.根据权利要求4或5所述的冷机系统,其中,
7.根据权利要求1至6中任一项所述的冷机系统,其中,
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种冷机系统,其使冷媒在晶片搭载台与冷机单元之间循环,其中,
2.根焊权利要求1所述的冷机系统,其中,
3.根据权利要求2所述的冷机系统,其中,
4.根据权利要求2...
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