光刻物镜和光刻设备制造技术

本发明专利技术公开了一种光刻物镜和光刻设备，涉及光学系统技术领域，其中，光刻物镜具有沿光轴方向对应设置的物侧和像侧，光刻物镜包括由物侧到像侧依次布设的第一透镜至第二十透镜；其中，第一透镜和第二十透镜设置为平面透镜，第二透镜、第三透镜、第六透镜、第七透镜、第八透镜、第九透镜、第十透镜、第十三透镜、第十四透镜、第十五透镜、第十八透镜、第十九透镜具有正光焦度；第四透镜、第五透镜、第十一透镜、第十二透镜、第十六透镜、第十七透镜具有负光焦度；以使得光刻物镜的曝光视场面积大于等于72mm×72mm，分辨率小于780nm。本发明专利技术提供的技术方案通过对二十块光学透镜的设计以及排列使光刻物镜同时达到高分辨率，大视场的效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学系统，特别涉及一种光刻物镜和光刻设备。

技术介绍

1、随着近些年来微电子技术的快速发展，对大规模集成电路的使用场景越来越多，因此对微电子设备和微细加工技术的需求也日益增加。光刻技术以其应用领域广，技术更新快的特点，推动着精细加工技术的快速发展。光刻机采用类似照片冲印的技术通过光线的曝光把掩膜版上的精细图形印制到硅片上应用于芯片制造、led制造和封装等领域。

2、随着光刻技术的不断更新，要求在更大面积的芯片上曝光更精密的线条(分辨率要求)，因此对应用于大曝光场的光刻镜头的需求也日益增加，而目前兼顾大靶面、高分辨率的此类镜头产品较少。

技术实现思路

1、本专利技术的主要目的是提出一种光刻物镜和光刻设备，尤其涉及一种光刻物镜旨在达到高分辨率同时满足大视场的效果。

2、为实现上述目的，本专利技术提出的光刻物镜，所述光刻物镜具有沿光轴方向对应设置的物侧和像侧，所述光刻物镜包括由物侧到像侧依次布设的第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜、第六透镜、第七透镜、第八透镜、第本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光刻物镜，其特征在于，所述光刻物镜具有沿光轴方向对应设置的物侧和像侧，所述光刻物镜包括由物侧到像侧依次布设的第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜、第六透镜、第七透镜、第八透镜、第九透镜、第十透镜、第十一透镜、第十二透镜、第十三透镜、第十四透镜、第十五透镜、第十六透镜、第十七透镜、第十八透镜、第十九透镜、第二十透镜；

2.如权利要求1所述的光刻物镜，其特征在于，所述第一透镜的物侧面、像侧面均设置为平面；

3.如权利要求1所述的光刻物镜，其特征在于，

4.如权利要求1所述的光刻物镜，其特征在于，

5.如权利要求1所述的光刻物...

【技术特征摘要】

1.一种光刻物镜，其特征在于，所述光刻物镜具有沿光轴方向对应设置的物侧和像侧，所述光刻物镜包括由物侧到像侧依次布设的第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜、第六透镜、第七透镜、第八透镜、第九透镜、第十透镜、第十一透镜、第十二透镜、第十三透镜、第十四透镜、第十五透镜、第十六透镜、第十七透镜、第十八透镜、第十九透镜、第二十透镜；

2.如权利要求1所述的光刻物镜，其特征在于，所述第一透镜的物侧面、像侧面均设置为平面；

3.如权利要求1所述的光刻物镜，其特征在于，

4.如权利要求1所述的光刻物镜，其特征在于，

5.如权利要求1所述的光刻物镜，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：江宝林，朱红伟，邱盛平，
申请(专利权)人：成都联江科技有限公司，
类型：发明
国别省市：