【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及建图定位，特别是涉及一种适用于井工矿长走廊环境的反光柱建图定位方法。
技术介绍
1、在现代的自动化和自主化移动系统中，定位是一个关键的问题。尤其是在井工矿等长走廊环境中，由于环境的特殊性，如长廊道效应明显、光线暗淡、粉尘多等因素，使得定位更加困难。传统的定位方法，如视觉辅助手段，容易受到这些因素的影响，导致定位效果不佳。而激光slam(simultaneous localization and mapping)技术虽然能够在一定程度上解决这些问题，但在特征相似的长走廊环境中，容易出现误匹配，影响定位精度和稳定性。因此，如何在这种特殊环境中实现高精度、高稳定性的定位，是当前需要解决的技术问题，所以我们提出了一种适用于井工矿长走廊环境的反光柱建图定位方法。
技术实现思路
1、为了解决在井工矿等长走廊环境中，由于环境的特殊性，如长廊道效应明显、光线暗淡、粉尘多等因素，使得定位更加困难的问题，本专利技术的目的是提供一种适用于井工矿长走廊环境的反光柱建图定位方法。
2、为了...
【技术保护点】
1.一种适用于井工矿长走廊环境的反光柱建图定位方法，其特征在于，包括有以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种适用于井工矿长走廊环境的反光柱建图定位方法，其特征在于：所述步骤一中，反光柱中心高度和激光水平面高度一致，反光柱的高度大于50cm；激光雷达与反光柱的距离小于10m；相邻的两个反光柱之间的距离大于1.5m。
3.根据权利要求1所述的一种适用于井工矿长走廊环境的反光柱建图定位方法，其特征在于：所述步骤二中，对整个点云进行遍历，取连续的n个点且分别进行判断点云强度，点云强度处于中间值的点存入到容器，容器大小为反光柱提取阈值范围内；所述高反点...
【技术特征摘要】
1.一种适用于井工矿长走廊环境的反光柱建图定位方法，其特征在于，包括有以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种适用于井工矿长走廊环境的反光柱建图定位方法，其特征在于：所述步骤一中，反光柱中心高度和激光水平面高度一致，反光柱的高度大于50cm；激光雷达与反光柱的距离小于10m；相邻的两个反光柱之间的距离大于1.5m。
3.根据权利要求1所述的一种适用于井工矿长走廊环境的反光柱建图定位方法，其特征在于：所述步骤二中，对整个点云进行遍历，取连续的n个点且分别进行判断点云强度，点云强度处于中间值的点存入到容器，容器大小为反光柱提取阈值范围内；所述高反点为从雷达发射出的激光点在碰到反光柱后反射回来的点，强度和反射率高于普通点云。
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【专利技术属性】
技术研发人员：黄琰，孙静，冯冲，申永刚，
申请(专利权)人：理工雷科智途北京科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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