【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及靶材加工,具体涉及一种lcd用g6代线一体式铝靶材组件的喷砂方法。
技术介绍
1、靶材是半导体制造中非常重要的材料,主要用于制备薄膜,广泛应用于集成电路、平板显示、太阳能电池、记录媒体、智能玻璃等领域。lcd(液晶显示器)靶材是用于制造液晶显示器件的关键材料之一,主要用于薄膜晶体管阵列的制作。在lcd的生产过程中,靶材通过溅射工艺沉积形成电极和其它功能层。靶材组件包括靶材和背板,lcd靶材组件一般包括g4.5代线一体型组件、g5代线一体型组件、g6代线一体型组件、g8.5代线一体型组件等,其中g6代线一体型组件的长度约为2200mm,宽度约为1700mm。
2、在靶材进行溅射之前,需要进行喷砂处理,以使得靶材获得较好的机械性能。通常,喷砂处理需要对靶材组件中除靶材本身的区域进行喷砂,比如背板的部分区域。其目的主要包括以下几个方面:(1)增加喷砂区域的表面粗糙度,提高与熔射膜层之间的粘附力,防止在长时间溅射过程中膜层的脱落;(2)去除表面的杂质和氧化物,从而改善靶材的机械性能;(3)去除靶材加工过程中可能会产生的
...【技术保护点】
1.一种LCD用G6代线一体式铝靶材组件的喷砂方法,其特征在于,所述喷砂方法包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的喷砂方法,其特征在于,步骤(1)所述G6代线一体式铝靶材组件的厚度为10-30mm。
3.根据权利要求1或2所述的喷砂方法,其特征在于,步骤(1)所述治具盖板与靶材组件的配合间隙为0-0.05mm。
4.根据权利要求1-3任一项所述的喷砂方法,其特征在于,步骤(1)所述治具盖板的材质包括轻质金属板或轻质金属合金中的任意一种。
5.根据权利要求1-4任一项所述的喷砂方法,其特征在于,步骤(1)所述遮蔽处理后将
...【技术特征摘要】
1.一种lcd用g6代线一体式铝靶材组件的喷砂方法,其特征在于,所述喷砂方法包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的喷砂方法,其特征在于,步骤(1)所述g6代线一体式铝靶材组件的厚度为10-30mm。
3.根据权利要求1或2所述的喷砂方法,其特征在于,步骤(1)所述治具盖板与靶材组件的配合间隙为0-0.05mm。
4.根据权利要求1-3任一项所述的喷砂方法,其特征在于,步骤(1)所述治具盖板的材质包括轻质金属板或轻质金属合金中的任意一种。
5.根据权利要求1-4任一项所述的喷砂方法,其特征在于,步骤(1)所述遮蔽处理后将治具盖板的侧...
【专利技术属性】
技术研发人员:姚力军,许国,窦兴贤,王青松,朱雪明,
申请(专利权)人:合肥江丰电子材料有限公司,
类型:发明
国别省市:
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