气体反应容器及废气处理设备制造技术

本申请提供一种气体反应容器及废气处理设备，属于废气处理的技术领域。气体反应容器包括：外壳体；内壳体，套设于外壳体的内侧，与外壳体之间形成冷却腔室，其内侧设有反应腔室；固定法兰，外壳体和内壳体位于同一侧的一端共同连接于固定法兰；溢流法兰，外壳体和内壳体位于同一侧的另一端共同连接于溢流法兰；输入管路，设置于外壳体，并与冷却腔室连通；其中，溢流法兰设有溢流槽以及溢流孔，溢流槽与反应腔室连通，溢流孔将冷却腔室与溢流槽连通。本申请提供的气体反应容器，粉尘不易粘附于反应腔室内壁，并可保护反应腔室的内壁不易被高温腐蚀和化学腐蚀，使用寿命较长。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及废气处理的，尤其涉及一种气体反应容器及废气处理设备。

技术介绍

1、在生产半导体器件的过程中，会产生四氢化硅和氟化氢等废气，需要先对废气进行无害化处理后再排出，避免废气污染大气环境。

2、目前，废气处理设备包括反应容器，在使用时，将废气输送至反应容器内，并在反应容器内对废气进行氧化处理等，以削减废气中的有害物质。

3、然而，会有较多的粉尘和颗粒物随同废气进入反应容器中，并附着于反应容器的内壁上，使用时间较长后易于出现反应容器内部堵塞的问题。并且，废气在反应容器内进行氧化处理的过程中，会对反应容器的内壁产生化学腐蚀和高温腐蚀，导致反应容器的使用寿命较短。

技术实现思路

1、本申请提供一种气体反应容器及废气处理设备，能够在反应腔室内形成流动保护层，不易出现堵塞问题，且反应腔室的内壁不易被腐蚀，使用寿命较长。

2、一方面，本申请提供一种气体反应容器，包括：

3、外壳体；

4、内壳体，套设于所述外壳体的内侧，与所述外壳体之间形成冷却腔室，其内侧设有本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种气体反应容器，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的气体反应容器，其特征在于，还包括均流法兰，设置于所述溢流法兰，其设有沿所述溢流法兰周侧方向设置的均流部；

3.根据权利要求2所述的气体反应容器，其特征在于，所述均流空隙包括第一空隙部和第二空隙部，所述第一空隙部与所述溢流槽连通，所述第二空隙部与所述反应腔室连通，所述第一空隙部的宽度大于所述第二空隙部的宽度。

4.根据权利要求2所述的气体反应容器，其特征在于，还包括防护内胆，设置于所述均流法兰；

5.根据权利要求2所述的气体反应容器，其特征在于，所述均流法兰与所述溢流法兰之间设...

【技术特征摘要】

1.一种气体反应容器，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的气体反应容器，其特征在于，还包括均流法兰，设置于所述溢流法兰，其设有沿所述溢流法兰周侧方向设置的均流部；

3.根据权利要求2所述的气体反应容器，其特征在于，所述均流空隙包括第一空隙部和第二空隙部，所述第一空隙部与所述溢流槽连通，所述第二空隙部与所述反应腔室连通，所述第一空隙部的宽度大于所述第二空隙部的宽度。

4.根据权利要求2所述的气体反应容器，其特征在于，还包括防护内胆，设置于所述均流法兰；

5.根据权利要求2所述的气体反应容器，其特征在于，所述均流法兰与...

【专利技术属性】
技术研发人员：章文军，闫潇，许信，
申请(专利权)人：北京京仪自动化装备技术股份有限公司，
类型：新型
国别省市：