【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光学元件、系统或仪器领域的光学面形测量技术,具体涉及一种平面绝对面形波面干涉检测装置及其应用方法。
技术介绍
1、紫外光刻、同步辐射光源、自由电子激光光源、激光陀螺等高端光学系统对关键核心光学元件提出了纳米、亚纳米甚至皮米级面形精度加工和测量要求。作为光学元件面形最常用的面形检测手段,波面干涉测量方法是相对干涉仪镜头参考面的测量。通常,商用干涉仪镜头参考面的面形误差在15nm-30nm rms左右,无法满足纳米及以上面形精度的检测需求。通常的做法是采用绝对检测的方法将参考面面形标定出,并在测量结果中减去。
2、目前公开的平面绝对面形波面干涉检测方法有三平板法、双剪切平移法、旋转平移法等,其中三平板法理论上只能得到截线面形,双剪切平移法理论上无法得到正确的二阶项面形误差( x2、 y2、 xy)、旋转平移法理论上无法得到正确的离焦项面形误差( x2、 y2)。采用三平板法和旋
...【技术保护点】
1.一种平面绝对面形波面干涉检测装置,其特征在于,包括波面干涉仪(1)、平面镜头(2)、被测平面镜(3)、转台(4)、直线平移台(5)、角度测量传感器(6)、X向角度传感器反射镜(7)、Y向角度传感器反射镜(8);所述平面镜头(2)安装于波面干涉仪(1)上,所述被测平面镜(3)安装在转台(4)上,所述转台(4)安装在直线平移台(5)上,所述被测平面镜(3)与平面镜头(2)平行,所述转台(4)的回转轴线与平面镜头(2)垂直,所述直线平移台(5)运动轴线与平面镜头(2)平行且与波面干涉仪(1)图像传感器的像素行平行,所述角度测量传感器(6)出射光束与直线平移台(5)运动轴
...【技术特征摘要】
1.一种平面绝对面形波面干涉检测装置,其特征在于,包括波面干涉仪(1)、平面镜头(2)、被测平面镜(3)、转台(4)、直线平移台(5)、角度测量传感器(6)、x向角度传感器反射镜(7)、y向角度传感器反射镜(8);所述平面镜头(2)安装于波面干涉仪(1)上,所述被测平面镜(3)安装在转台(4)上,所述转台(4)安装在直线平移台(5)上,所述被测平面镜(3)与平面镜头(2)平行,所述转台(4)的回转轴线与平面镜头(2)垂直,所述直线平移台(5)运动轴线与平面镜头(2)平行且与波面干涉仪(1)图像传感器的像素行平行,所述角度测量传感器(6)出射光束与直线平移台(5)运动轴线平行,所述x向角度传感器反射镜(7)与角度测量传感器(6)的出射光束垂直,所述y向角度传感器反射镜(8)与x向角度传感器反射镜(7)之间夹角为90度。
2.根据权利要求1所述的平面绝对面形波面干涉检测装置,其特征在于,所述平面绝对面形波面干涉检测装置还包括控制模块,所述波面干涉仪(1)、转台(4)、直线平移台(5)和角度测量传感器(6)分别与控制模块相连。
3.根据权利要求2所述的平面绝对面形波面干涉检测装置,其特征在于,所述控制模块还连接有通讯模块,且所述控制模块通过通讯模块与一上位机相连。
4.一种权利要求1~3中任意一项所述的平面绝对面形波面干涉检测装置的应用方法,其特征在于,包括利用角度测量传感器(6)测量x向角度传感器反射镜(7)或y向角度传感器反射镜(8)的角度,以确定直线平移台(5)运动前后的偏航...
【专利技术属性】
技术研发人员:薛帅,戴一帆,简浩鹏,彭小强,胡皓,刘勇,
申请(专利权)人:中国人民解放军国防科技大学,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。