【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体加工,尤其是一种非平整框架上料装置。
技术介绍
1、在半导体封测制程中,传统上料机构对于平整框架的上料效果稳定。然而,对于非平整框架,其芯片侧厚度显著大于引脚侧,导致多层叠放时易出现歪斜,影响上料成功率。尽管使用额外机构进行调整,但上料成功率仍受影响,且设备报警增多,降低了设备产能。现有的针对非平整框架上料,采用传送带,将框架传送到轨道处,在通过吸爪将最外侧的一块框架吸取后转入轨道上,而传送带则继续向前运行,以便吸爪抓取下一块框架。
2、但是在传送带传送大批量框架时,由于框架是不平整的,且受环境以及设备运行等因素的影响,传送带发生晃动,导致放料架上的非平整框架发生晃动,会造成最外端的框架倾倒,导致无法继续上料,进而影响上料效率,因此需提供一种非平整框架上料装置,以避免非平整框架在传送带上运行的稳定性。
技术实现思路
1、本专利技术要解决的技术问题是:提供一种非平整框架上料装置,以解决上述
技术介绍
中提出的,传送带传送大批量框架时,由于框架是不平整的,且受环境以 ...
【技术保护点】
1.一种非平整框架上料装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的一种非平整框架上料装置,其特征在于,所述主体组件还包括第一转轴(11)、传送带(12)和放料架(13);
3.根据权利要求1所述的一种非平整框架上料装置,其特征在于,所述主体组件还包括限位板(14)和第二转轴(15);
4.根据权利要求3所述的一种非平整框架上料装置,其特征在于,所述主体组件还包括旋转吸爪(16)和轨道(17);
5.根据权利要求3所述的一种非平整框架上料装置,其特征在于,所述挡板(27)位于两块限位板(14)之间,且靠近其中一块限位
...【技术特征摘要】
1.一种非平整框架上料装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的一种非平整框架上料装置,其特征在于,所述主体组件还包括第一转轴(11)、传送带(12)和放料架(13);
3.根据权利要求1所述的一种非平整框架上料装置,其特征在于,所述主体组件还包括限位板(14)和第二转轴(15);
4.根据权利要求3所述的一种非平整框架...
【专利技术属性】
技术研发人员:李明秋,
申请(专利权)人:常州九天未来微电子有限公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。