配置于微影系统的光罩取放装置内的过滤装置制造方法及图纸

一种配置于微影系统的光罩取放装置内的过滤装置，微影系统至少包括：光源装置用以提供光源；光罩取放装置配置有复数个光罩；光罩承载台配置有固定器用以固定光罩；基板承载台配置有固定器用以固定基板；透镜组将光源装置的光源聚焦并使光罩承载台上的光罩接受照射部分转移至基板。而过滤装置由底座、上盖及化学吸附层所形成，过滤装置与微影系统内的光罩具相同尺寸，且与光罩相邻排列于光罩取放装置内支撑架上，因此，过滤装置可有效地过滤该光罩周围的悬浮分子污染物，以避免该悬浮分子污染物形成于光罩表面。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是关于一种过滤装置，特别是关于一种可配置于光罩储存装置内或微影系统的光罩取放装置内的过滤装置，用以避免悬浮分子污染物(AMC)形成薄雾(Haze)于光罩表面。
技术介绍
在半导体工艺中，微影设备是扮演最重要的角色之一。微影设备可以将光罩(reticle)上的线路图案，完整且精确地成像于圆片上的光阻，其由重复(repeat)移动圆片位置并重复地曝光，以完成整个圆片的曝光。在此重复曝光的过程中，圆片表面受光束的重复照射及曝光后，会在微影设备中产生一些悬浮分子污染物(airbome molecular contamination, AMC)，而此悬浮分子污染物(AMC)会污染光罩。如果在光罩上有悬浮分子污染物(AMC)的薄雾(Haze)形成时，则此薄雾(Haze)会随着每次曝光而成像于每一曝光区，此称之为重复缺陷(repeated defect),这会造成圆片良率(yield)的严重损失。而上述薄雾(Haze)的形成，可能是由于光罩在曝光后回收时，伴随进入光罩取放装置而污染相邻的其它光罩。在公知解决此污染问题的方法只是在该光罩取放装置中，导以清洁干燥的空气(clean dry 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种过滤装置，包含有：一底座，其上配置复数个通孔并于该底座的内侧周边区域形成阶梯状平台用以支撑一配置复数个通孔的上盖，以使该底座与该上盖组合的后形成一内部空间，其特征在于：　　　　该底座与该上盖是由金属所形成且于该底座与该上盖组合的后所形成的该内部空间中容置一化学吸附层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘裕彰，刘维虔，周昱良，
申请(专利权)人：家登精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]