【技术实现步骤摘要】
本技术属于晶圆输送，尤其是涉及一种定位缓存输送机构。
技术介绍
1、晶圆在加工过程中，为了便于流转，通常放置在晶圆盒中。由于晶圆的尺寸大小不一，晶圆盒的尺寸也多样化。为了便于在各个加工工序中流转，通常将晶圆盒放置在托盘中进行运输。在运输过程中，输送线体无法对托盘进行定位，加工设备无法精确的拿放晶圆盒，影响加工效率，且输送线体无法对空置的托盘进行缓存，影响传输效率。
技术实现思路
1、为解决上述技术问题，本技术提供一种定位缓存输送机构，有效的解决了晶圆盒托盘在运输过程中无法定位且空置的托盘无法缓存的问题，克服了现有技术的不足。
2、本技术采用的技术方案是：一种定位缓存输送机构，包括：
3、抓取层，用于输送承载待加工晶圆的晶圆盒，所述晶圆盒底部设有托盘；
4、放置层，设置在所述抓取层的下方，用于输送所述托盘，所述托盘用于放置承载已加工晶圆的晶圆盒；
5、缓存层，设置在所述放置层的下方，用于缓存所述托盘；
6、其中，所述抓取层和放置层均...
【技术保护点】
1.一种定位缓存输送机构，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种定位缓存输送机构，其特征在于：还包括换层输送装置，设置在所述抓取层、放置层和缓存层的同一端，用于所述托盘的换层输送，所述抓取层的夹持定位装置设置在靠近所述换层输送装置的一端，所述放置层的夹持定位装置设置在远离所述换层输送装置的一端。
3.根据权利要求2所述的一种定位缓存输送机构，其特征在于：所述换层输送装置包括升降组件和输送组件，所述输送组件设置在所述升降组件上，所述升降组件可带动所述输送组件上下移动。
4.根据权利要求2或3所述的一种定位缓存输送机构，其特征...
【技术特征摘要】
1.一种定位缓存输送机构，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种定位缓存输送机构，其特征在于：还包括换层输送装置，设置在所述抓取层、放置层和缓存层的同一端，用于所述托盘的换层输送，所述抓取层的夹持定位装置设置在靠近所述换层输送装置的一端，所述放置层的夹持定位装置设置在远离所述换层输送装置的一端。
3.根据权利要求2所述的一种定位缓存输送机构，其特征在于：所述换层输送装置包括升降组件和输送组件，所述输送组件设置在所述升降组件上，所述升降组件可带动所述输送组件上下移动。
4.根据权利要求2或3所述的一种定位缓存输送机构，其特征在于：所述放置层包括第一输送线体和第二输送线体，沿输送方向并排设置，所述第二输送线体设置在所述放置层靠近所述换层输送装置的一端，所述放置层的夹持定位装置设置在所述第一输送线体上。
5.根据权利要求4所述的一种定位缓存输送机构，其特征在于：所述夹持定位装置包括，...
【专利技术属性】
技术研发人员：张久武，陈健华，何旭升，卜兆宁，吴韬，程志砷，张瑞，冯利，
申请(专利权)人：天津中环领先材料技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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