【技术实现步骤摘要】
本技术涉及真空镀膜，具体涉及一种具有金属原子分离功能的真空镀膜设备。
技术介绍
1、真空镀膜包括蒸发镀膜和磁控溅射镀膜。蒸发式真空镀膜是指在真空条件下，利用加热的方式(包含但不限于下列方式：蒸发舟、蒸发坩埚、电子束、射频、等离子、激光等)使镀膜材料融化气化，气化后的镀膜材料蒸汽凝结沉积在被镀物表面上，形成均匀致密的镀层，此种镀膜工艺成膜均匀，结合力良好，得到广泛的应用。磁控溅射镀膜是指在真空条件下，利用获得功能的粒子轰击靶材表面，使靶材表面原子获得足够的能量而逃逸，溅射到薄膜上，成膜均匀，结合力良好，得到广泛的应用。
2、真空镀膜设备需要使用真空泵组来对腔室进行抽真空，真空镀膜设备的真空泵组通常包括依次连接的前级泵、次级泵和三级泵，且前级泵、次级泵和三级泵串联后与真空腔室连接。所述三级泵一般为分子泵或油扩散泵，次级泵为罗茨泵，初级泵为机械泵。真空泵(如分子泵)一般直接与真空腔室连通，但在真空镀膜过程中，腔室内有部分金属原子(如铝原子)会随着气体进入分子泵中。分子泵为高精度的设备，金属杂质进入分子泵中会对分子泵的抽真空效率和使
【技术保护点】
1.一种具有金属原子分离功能的真空镀膜设备，其特征在于，所述真空镀膜设备包括：真空镀膜腔室(1)、真空泵(2)和杂质分离装置(3)，所述真空泵(2)直接通过所述杂质分离装置(3)与所述真空镀膜腔室(1)连通；
2.根据权利要求1所述的一种具有金属原子分离功能的真空镀膜设备，其特征在于，所述杂质分离装置(3)包括：
3.根据权利要求2所述的一种具有金属原子分离功能的真空镀膜设备，其特征在于，
4.根据权利要求3所述的一种具有金属原子分离功能的真空镀膜设备，其特征在于，
5.根据权利要求2所述的一种具有金属原子分离功能的真空...
【技术特征摘要】
1.一种具有金属原子分离功能的真空镀膜设备，其特征在于，所述真空镀膜设备包括：真空镀膜腔室(1)、真空泵(2)和杂质分离装置(3)，所述真空泵(2)直接通过所述杂质分离装置(3)与所述真空镀膜腔室(1)连通；
2.根据权利要求1所述的一种具有金属原子分离功能的真空镀膜设备，其特征在于，所述杂质分离装置(3)包括：
3.根据权利要求2所述的一种具有金属原子分离功能的真空镀膜设备，其特征在于，
4.根据权利要求3所述的一种具有金属原子分离功能的真空镀膜设备，其特征在于，
5.根据权利要求2所述的一种具有金属原子分离功能的真空镀膜设备，其特征在于，所述杂质分离装置(3)还包括：杂质收集机构(34)，与所述第二出口(313)连接，用于收集金属原子(b)。
6....
【专利技术属性】
技术研发人员：臧世伟，
申请(专利权)人：深圳金美新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。