【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于半导体封装领域,具体为一种带有转接板的mems传感器封装结构及其制造方法。
技术介绍
1、随着半导体技术的不断发展,传感器芯片的封装技术逐渐换代,现代集成电路中i/o数量急剧增加,对于封装技术的要求逐渐升高,但是现有的封装技术封装体积大,效率低,不能满足现代集成电路对高集成度、高密度、高性能的需求,为了不断适应市场的需求,新的封装技术如2.5d,3d等先进封装技术越来越多的用到半导体传感器封装制程中。
技术实现思路
1、本专利技术的提供了一种带有转接板的mems传感器封装结构及其制造方法,解决了现有的封装技术现有的封装技术封装体积大和效率低的问题。
2、为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:
3、一种带有转接板的mems传感器封装结构的制造方法,包括:
4、对转接板进行硅穿孔,将mems芯片与转接板进行固定,并将mems芯片线路导通引入到转接板背面;
5、在转接板背面植球,将倒装类型的asic芯片粘接固定在转接板背面;
...【技术保护点】
1.一种带有转接板的MEMS传感器封装结构的制造方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的一种带有转接板的MEMS传感器封装结构的制造方法,其特征在于,对转接板(5)进行硅穿孔采用TSV技术。
3.根据权利要求1所述的一种带有转接板的MEMS传感器封装结构的制造方法,其特征在于,转接板(5)材质采用硅基或者玻璃基材。
4.根据权利要求1所述的一种带有转接板的MEMS传感器封装结构的制造方法,其特征在于,ASIC芯片(2)通过倒装焊的方式固定在转接板(5)上。
5.根据权利要求1所述的一种带有转接板的MEMS传感器
...【技术特征摘要】
1.一种带有转接板的mems传感器封装结构的制造方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的一种带有转接板的mems传感器封装结构的制造方法,其特征在于,对转接板(5)进行硅穿孔采用tsv技术。
3.根据权利要求1所述的一种带有转接板的mems传感器封装结构的制造方法,其特征在于,转接板(5)材质采用硅基或者玻璃基材。
4.根据权利要求1所述的一种带有转接板的mems传感器封装结构的制造方法,其特征在于,asic芯片(2)通过倒装焊的方式固定在转接板(5)上。
5.根据权利要求1所述的一种带有转接板的mems传感器封装结构的制造方法,其特征在于,asic芯片(2)与转接板(5)之间通过underfill胶水(6)填充。
6.根据权利要求5所述的一种带有转接板的mems传感器封装结构的...
【专利技术属性】
技术研发人员:庞宝龙,马勉之,胡晓飞,张婕,曹雪,
申请(专利权)人:华天科技西安有限公司,
类型:发明
国别省市:
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